CVD & PECVD Furnace
Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine
Artikelnummer : KT-PE12
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Max. Temperatur
- 1200℃
- HF-Plasma-Ausgangsleistung
- 5-500W
- Nenn-Vakuumdruck
- 10Pa~6x10-4Pa
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Präzise Dünnschichtabscheidung freischalten
Der KINTEK Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigvergaser ist ein hochmodernes System, das für die vielseitige und leistungsstarke Dünnschichtabscheidung entwickelt wurde. Er wurde konzipiert, um den strengen Anforderungen moderner Forschung und Produktion gerecht zu werden, und kombiniert eine 500-W-HF-Plasmaquelle, einen innovativen ausziehbaren Ofen für schnelle thermische Zyklen, eine präzise Gasflusssteuerung und eine robuste Vakuumstation. Ob für Elektronik, Halbleiter, Optik oder fortgeschrittene Materialwissenschaften – dieses System liefert außergewöhnliche Ergebnisse und Zuverlässigkeit. Bei KINTEK nutzen wir unsere umfassende F&E-Expertise und unsere eigene Fertigung, um fortschrittliche Ofenlösungen wie diese anzubieten und eine starke Tiefenanpassung zu ermöglichen, um Ihre einzigartigen experimentellen Anforderungen präzise zu erfüllen.
Hauptmerkmale & Vorteile
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine bietet zahlreiche Vorteile zur Verbesserung Ihrer Forschung und Produktion:
- Verbesserte Energieerzeugung: Die innovative Graphitschiffchen-Struktur verbessert die Leistungsabgabe von Solarzellen-Wafern erheblich.
- Gleichmäßige Zellenqualität: Eliminiert effektiv Farbunterschiede in tubulären PECVD-Zellen und gewährleistet konsistente Ergebnisse.
- Vielseitige HF-Plasmaquelle: Verfügt über eine automatisch anpassende HF-Plasmaquelle mit einem breiten Ausgangsleistungsbereich (5-500 W) für eine stabile und anpassungsfähige Leistung in verschiedenen Anwendungen.
- Schnelle thermische Zyklen: Das Schiebesystem der Ofenkammer ermöglicht schnelles Aufheizen und Abkühlen, was die Bearbeitungszeit erheblich verkürzt. Eine zusätzliche Zwangsluftzirkulation beschleunigt die Abkühlrate weiter.
- Automatisierter Betrieb: Die optionale automatisierte Schiebebewegung erhöht die Effizienz und reduziert manuelle Eingriffe für optimierte Arbeitsabläufe.
- Präzises Temperaturmanagement: Die programmierbare PID-Temperaturregelung gewährleistet eine genaue Temperaturregulierung. Unterstützt Fernsteuerung und zentrale Steuerung für zusätzlichen Komfort und betriebliche Flexibilität.
- Genaue Gassteuerung: Hochpräzise MFC-Massendurchflussmesser steuern die Quellgase exakt und gewährleisten eine stabile, konsistente und vorgemischte Gaszufuhr.
- Hochleistungs-Vakuumsystem: Der Vakuumflansch aus Edelstahl mit mehreren Anschlussports ermöglicht verschiedene Vakuumpumpenkonfigurationen und gewährleistet einen hohen Vakuumgrad sowie eine zuverlässige Abdichtung.
- Benutzerfreundliche Schnittstelle: Ausgestattet mit dem CTF Pro 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller, der die Programmeinstellung und den Betrieb vereinfacht und eine einfache Analyse historischer Daten ermöglicht.
Vielseitige Anwendungen
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine ist ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, darunter:
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
- Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
- Dünnschichtabscheidung für verschiedene Materialien
- Herstellung und Forschung von Solarzellen
- Halbleiterverarbeitung
- Forschung und Entwicklung in der Nanotechnologie
- Fortgeschrittene materialwissenschaftliche Studien
- Allgemeine Forschung und Entwicklung in kontrollierten Atmosphären
Entdecken Sie unsere Systemkonfigurationen
KINTEK bietet verschiedene CVD-System-Setups an, um unterschiedliche experimentelle Anforderungen zu erfüllen. Nachfolgend finden Sie Beispiele für verfügbare Konfigurationen:


Funktionsprinzip
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine nutzt Niedertemperaturplasma, um eine Glimmentladung an der Kathode (Probenträger) der Prozesskammer zu erzeugen. Die Glimmentladung (oder eine andere Wärmequelle) erhöht die Temperatur der Probe auf ein vorgegebenes Niveau. Anschließend werden kontrollierte Mengen an Prozessgas eingeleitet, die chemische und Plasmareaktionen eingehen, um einen festen Film auf der Oberfläche der Probe zu bilden.
Integrierte Sicherheitsvorteile
- Überstrom- und Übertemperaturschutz: Der Ofen ist mit einem Überstromschutz und Übertemperatur-Alarmfunktionen ausgestattet, die den Strom automatisch abschalten, wenn Grenzwerte überschritten werden.
- Thermoelement-Fehlererkennung: Eine integrierte Thermoelement-Erkennungsfunktion stoppt die Heizung und löst einen Alarm aus, wenn ein defektes oder ausgefallenes Thermoelement erkannt wird, um unkontrolliertes Aufheizen zu verhindern.
- Stromausfall-Neustartfunktion: Der PE Pro-Controller unterstützt eine Neustartfunktion nach Stromausfall, die es dem Ofen ermöglicht, sein Heizprogramm automatisch fortzusetzen, sobald die Stromversorgung nach einem Ausfall wiederhergestellt ist.
Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | KT-PE12-60 |
| Max. Temperatur | 1200℃ |
| Konstante Arbeitstemperatur | 1100℃ |
| Ofenrohrmaterial | Hochreiner Quarz |
| Ofenrohrdurchmesser | 60mm |
| Länge der Heizzone | 1x450mm |
| Kammermaterial | Japanische Aluminiumoxidfaser |
| Heizelement | Cr2Al2Mo2 Drahtspule |
| Heizrate | 0-20℃/min |
| Thermoelement | Eingebaut Typ K |
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
| Temperaturregelgenauigkeit | ±1℃ |
| Schiebedistanz | 600mm |
| HF-Plasmaeinheit | |
| Ausgangsleistung | 5 - 500W einstellbar mit ± 1% Stabilität |
| HF-Frequenz | 13,56 MHz ±0,005% Stabilität |
| Reflexionsleistung | 350W max. |
| Anpassung | Automatisch |
| Geräuschpegel | |
| Kühlung | Luftkühlung. |
| Gasprazisions-Steuereinheit | |
| Durchflussmesser | MFC-Massendurchflussmesser |
| Gaskanäle | 4 Kanäle |
| Durchflussrate | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearität | ±0,5% F.S. |
| Wiederholbarkeit | ±0,2% F.S. |
| Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
| Maximaler Betriebsdruck | 0,45MPa |
| Durchflussregler | Digitaler Drehknopfregler/Touchscreen-Regler |
| Standard-Vakuumeinheit (Optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe |
| Pumpenförderstrom | 4L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Pirani/Widerstands-Silizium-Vakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 10Pa |
| Hochvakuumeinheit (Optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieberpumpe + Molekularpumpe |
| Pumpenförderstrom | 4L/S + 110L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Kombinations-Vakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 6x10-4Pa |
| Obige Spezifikationen und Setups können angepasst werden | |
Inhalt des Standardpakets
| Nr. | Beschreibung | Menge |
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Quarzrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Thermoblock | 2 |
| 5 | Haken für Rohr-Thermoblock | 1 |
| 6 | Hitzebeständiger Handschuh | 1 |
| 7 | HF-Plasmaquelle | 1 |
| 8 | Präzise Gassteuerung | 1 |
| 9 | Vakuumeinheit | 1 |
| 10 | Bedienungsanleitung | 1 |
Anpassung & Optionale Setups
Bei KINTEK sind wir stolz auf unsere starke Fähigkeit zur Tiefenanpassung. Wir können den Schiebe-PECVD-Rohroofen genau auf Ihre einzigartigen experimentellen Anforderungen zuschneiden. Verfügbare optionale Setups umfassen:
- Gaserkennung und -überwachung im Rohr (z. B. H2, O2)
- Unabhängige Systeme zur Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485-Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Kundenspezifische Steuerung der Gaszufuhrrate (Massendurchflussmesser oder Schwebekörper-Durchflussmesser)
- Fortschrittlicher Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, bedienerfreundlichen Funktionen
- Verschiedene Hochvakuumpumpstation-Setups (z. B. Drehschieberpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe)
Partnern Sie mit KINTEK für Ihren Bedarf an fortschrittlichen Öfen
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen von KINTEK ist auf Anpassungsfähigkeit und hohe Leistung ausgelegt. Wir verstehen, dass Ihre Forschung einzigartig ist. Nutzen Sie unsere starken Tiefenanpassungsmöglichkeiten, um dieses System genau auf Ihre Spezifikationen zuzuschneiden. Ob Sie andere Temperaturbereiche, spezifische Gaskonfigurationen, fortschrittliche Steuerungsfunktionen oder einzigartige Vakuum-Setups benötigen, unser Expertenteam steht Ihnen zur Seite.
Bereit, Ihre Forschung oder Produktion auf die nächste Stufe zu heben? Besprechen Sie Ihre Anforderungen mit unseren Experten und erhalten Sie ein persönliches Angebot. Bitte füllen Sie unser Kontaktformular aus, und einer unserer Spezialisten wird sich in Kürze mit Ihnen in Verbindung setzen, um Ihnen bei der Konfiguration der perfekten PECVD-Lösung zu helfen!
Vertraut von Branchenführern
FAQ
Was Ist Das Prinzip Einer MPCVD-Anlage?
Was Ist Ein Rohrofen Und Wie Funktioniert Er?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Mehrzonen-Rohröfen?
Was Ist Das Prinzip Einer CVD-Anlage?
Was Sind Die Häufigsten Anwendungen Eines Geteilten Rohrofens?
Was Ist Ein Vertikalrohrofen?
Was Sind Die Vorteile Einer MPCVD-Anlage?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Rohröfen?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Von Mehrzonen-Rohröfen?
Welche Vorteile Bietet Die Verwendung Einer CVD-Anlage?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Eines Spaltrohrofens?
Was Sind Die Anwendungen Eines Vertikalrohrofens?
Was Sind Die Wichtigsten Anwendungen Von MPCVD-Maschinen?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Rohrofens?
Wie Funktioniert Ein Mehrzonen-Rohrofen?
Was Sind Die Anwendungen Einer CVD-Maschine?
Wie Funktioniert Ein Spaltrohrofen?
Was Sind Die Vorteile Eines Vertikalrohrofens?
Was Sind Die Hauptbestandteile Einer MPCVD-Anlage?
Welche Arten Von Rohröfen Gibt Es?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Mehrzonen-Rohrofens?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Einer CVD-Anlage?
Was Sind Die Vorteile Eines Geteilten Rohrofens?
Wie Funktioniert Ein Vertikalrohrofen?
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Welche Temperaturbereiche Können Rohröfen Erreichen?
Welche Arten Von Mehrzonen-Rohröfen Gibt Es?
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Welche Arten Von Vertikalrohröfen Gibt Es?
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Sind Vertikalrohröfen Anpassbar?
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Produktdatenblatt
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