CVD & PECVD Furnace
Geneigter rotierender PECVD-Rohrofen (Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung)
Artikelnummer : KT-PE16
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Max. Temperatur
- 1600℃
- HF-Plasma-Ausgangsleistung
- 5 - 500 W einstellbar mit ± 1 % Stabilität
- Nennvakuumdruck
- 10 Pa (Standard), 6x10-5 Pa (Hochvakuum optional)
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Geneigter rotierender Rohrofen für plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
Die geneigte rotierende PECVD-Rohrofenanlage ist ein hochentwickeltes System, das für die Forschung und Produktion fortschrittlicher Materialien konzipiert wurde. Sie nutzt ein rotierendes Ofenrohr und einen Plasmagenerator, um chemische Reaktionen in einer Gasentladung zu induzieren, was die Bildung hochwertiger fester Ablagerungen auf verschiedenen Materialien ermöglicht. Diese präzise Steuerung des Abscheidungsprozesses macht sie für modernste Anwendungen unentbehrlich.
Hauptmerkmale & Vorteile für Ihre Forschung
Unser PECVD-Rohrofen ist so konstruiert, dass er Präzision, Effizienz und Vielseitigkeit in Ihr Labor bringt:
- Verbesserte Abscheidungsqualität:
- Gleichmäßiges Mischen und Erhitzen: Das rotierende Ofenrohr mit variablem Durchmesser und Mischblech sorgt für eine gründliche Materialmischung und eine gleichmäßige Temperaturverteilung, was zu gleichmäßigen und hochwertigen Abscheidungen führt.
- Vielseitige Plasmaquelle: Die RF-Plasmaquelle (5-500 W, automatische Anpassung) liefert eine stabile und einstellbare Leistung, erhöht die Aktivierungsenergie, senkt die Reaktionstemperaturen und verbessert die Gesamteffizienz des Prozesses für eine maßgeschneiderte Materialabscheidung.
- Präzise Prozesssteuerung:
- Genaues Temperaturmanagement: Die programmierbare PID-Temperaturregelung bietet außergewöhnliche Genauigkeit (±1 ℃) und Stabilität und ermöglicht präzise Heiz- und Kühlzyklen, die für das Erreichen optimaler Materialeigenschaften entscheidend sind. Unterstützt Fernsteuerung und zentrale Steuerung.
- Kontrollierte Gasumgebung: Hochpräzise MFC-Massendurchflussregler (bis zu 4 Kanäle) und eine Gasmischvorrichtung ermöglichen eine präzise Steuerung der Gaszusammensetzung und der Durchflussraten, was für die Optimierung von Abscheidungsprozessen für spezifische Materialien und Anwendungen von entscheidender Bedeutung ist.
- Effizientes Vakuumsystem: Ausgestattet mit einer Hochleistungs-Vakuumpumpe zur schnellen Evakuierung des Ofenrohrs. Optionale Hochvakuumeinheiten (z. B. bis zu 6x10-5 Pa mit Molekularpumpe) sind für anspruchsvolle Prozesse erhältlich.
- Benutzerfreundliche Bedienung & Langlebigkeit:
- Intuitive Benutzeroberfläche: Der CTF Pro Controller mit einem 7-Zoll-TFT-Touchscreen ermöglicht eine benutzerfreundliche Programmeinstellung, Echtzeit-Datenüberwachung, historische Datenanalyse und Fernsteuerungsfunktionen, was den Betrieb rationalisiert.
- Schnelle Verarbeitung: Ein automatisiertes Schiebesystem für die Ofenkammer ermöglicht schnelles Aufheizen und Abkühlen, minimiert die Bearbeitungszeit und steigert die Produktivität. Zusätzliche Schnellkühlung und automatische Schiebebewegung sind verfügbar.
- Robuste Konstruktion: Ausgestattet mit einem Vakuumflansch aus Edelstahl mit anpassbaren Anschlüssen, der eine zuverlässige Abdichtung und hohe Vakuumwerte für eine reine Abscheidungsumgebung gewährleistet. Entwickelt für Spitzenleistung, geringe Wartung, einfache Installation und eine lange Lebensdauer.


Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | PE-1600-60 |
|---|---|
| Max. Temperatur | 1600 ℃ |
| Konstante Arbeitstemperatur | 1550 ℃ |
| Material des Ofenrohrs | Hochreines Al2O3-Rohr |
| Durchmesser des Ofenrohrs | 60 mm |
| Länge der Heizzone | 2x300 mm |
| Material der Kammer | Japanische Tonerde-Faser |
| Heizelement | Molybdändisilizid |
| Heizrate | 0-10 ℃/min |
| Thermoelement | Typ B |
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
| Genauigkeit der Temperaturregelung | ±1 ℃ |
| RF-Plasma-Einheit | |
| Ausgangsleistung | 5 - 500 W einstellbar mit ± 1 % Stabilität |
| RF-Frequenz | 13,56 MHz ± 0,005 % Stabilität |
| Reflexionsleistung | Max. 350 W |
| Anpassung | Automatisch |
| Geräuschpegel | <50 dB |
| Kühlung | Luftkühlung |
| Präzisions-Gassteuereinheit | |
| Durchflussmesser | MFC-Massendurchflussmesser |
| Gaskanäle | 4 Kanäle |
| Durchflussrate | MFC1: 0-5 SCCM O2 MFC2: 0-20 SCM CH4 MFC3: 0-100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearität | ±0,5 % F.S. |
| Wiederholbarkeit | ±0,2 % F.S. |
| Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
| Maximaler Betriebsdruck | 0,45 MPa |
| Durchflussregler | Digitaler Drehknopfregler/Touchscreen-Regler |
| Standard-Vakuumeinheit (Optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe |
| Pumpenförderstrom | 4 L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Pirani/Widerstands-Silizium-Vakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 10 Pa |
| Hochvakuumeinheit (Optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieberpumpe + Molekularpumpe |
| Pumpenförderstrom | 4 L/S + 110 L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Kombinations-Vakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 6x10-5 Pa |
| Obige Spezifikationen und Konfigurationen können angepasst werden | |
Anwendungen
Die Präzision und Vielseitigkeit unseres PECVD-Rohrofens machen ihn ideal für eine breite Palette von Anwendungen und fördern Innovationen in Bereichen wie:
- Halbleiterfertigung: Abscheidung von dünnen Schichten wie Siliziumnitrid, Siliziumdioxid und Polysilizium auf Wafern.
- Solarzellenproduktion: Herstellung von Dünnschichten wie Cadmiumtellurid und Kupfer-Indium-Gallium-Selenid.
- Flachbildschirm-Technologie: Abscheidung von Materialien wie Indiumzinnoxid und Zinkoxid.
- Optische Beschichtungen: Aufbringen von dünnen Schichten wie Titandioxid und Siliziumnitrid auf optische Komponenten.
- Herstellung medizinischer Geräte: Beschichtung medizinischer Geräte mit biokompatiblen oder funktionellen dünnen Schichten wie Hydroxylapatit und Titannitrid.
Funktionsprinzip
Die geneigte rotierende PECVD-Rohrofenanlage arbeitet als plasmaunterstütztes rotierendes System zur chemischen Gasphasenabscheidung. Sein Ofenrohr verfügt über ein Design mit variablem Durchmesser und einem Mischblech, das eine gleichmäßige Erwärmung und effiziente Materialmischung ermöglicht. Ein induktiv gekoppelter Plasmagenerator umschließt das Ofenrohr und sorgt für eine erhöhte Aktivierungsenergie, wodurch die Reaktionstemperaturen gesenkt und die Effizienz gesteigert werden kann. Die Anlage nutzt einen Drei-Wege-Massendurchflussmesser und eine Gasmischvorrichtung für eine präzise Gassteuerung. Zusätzlich ermöglicht eine Hochleistungs-Vakuumpumpe die schnelle Evakuierung des Ofenrohrs, wodurch eine für verschiedene CVD-Prozesse geeignete Vakuumumgebung geschaffen wird.
Sicherheitsmerkmale
Sicherheit steht bei unserem Design an erster Stelle. Der KINTEK-Rohrofen verfügt über mehrere Sicherheitsmechanismen:
- Überstromschutz und Übertemperaturalarmfunktionen, die bei Überschreitung von Grenzwerten automatisch die Stromversorgung unterbrechen.
- Integrierte Thermoelement-Brucherkennung; der Ofen stoppt das Heizen und löst einen Alarm aus, wenn ein Fehler erkannt wird.
- Der PE Pro Controller unterstützt eine Neustartfunktion nach Stromausfall, die es dem Ofen ermöglicht, sein Heizprogramm fortzusetzen, sobald die Stromversorgung wiederhergestellt ist.
Standardpaket
| Nr. | Beschreibung | Menge |
|---|---|---|
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Quarzrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Thermoblock | 2 |
| 5 | Haken für Rohr-Thermoblock | 1 |
| 6 | Hitzebeständiger Handschuh | 1 |
| 7 | RF-Plasmaquelle | 1 |
| 8 | Präzise Gassteuerung | 1 |
| 9 | Vakuumeinheit | 1 |
| 10 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionale Konfigurationen & Anpassung
Passen Sie das PECVD-System mit unserem Angebot an optionalen Konfigurationen an Ihre spezifischen Forschungsanforderungen an:
- Gasdetektion und -überwachung im Rohr (z. B. H2, O2).
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur.
- RS 485-Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport.
- Steuerung der Durchflussraten für die Zufuhr von Einsatzgas (z. B. Massendurchflussmesser und Schwebekörper-Durchflussmesser).
- Fortschrittlicher Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, bedienerfreundlichen Funktionen.
- Konfigurationen für Hochvakuumpumpstationen (z. B. Drehschieberpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe).
Ihr Partner in der fortgeschrittenen Materialwissenschaft
Durch außergewöhnliche Forschung und Entwicklung sowie eigene Fertigung bietet KINTEK verschiedenen Labors fortschrittliche Hochtemperatur-Ofenlösungen an. Unsere Produktlinie, die Muffel-, Rohr- und Drehrohröfen, Vakuum- und Atmosphärenöfen sowie CVD/PECVD/MPCVD-Systeme umfasst, wird durch unsere starke Fähigkeit zur tiefgreifenden Anpassung ergänzt, um Ihre einzigartigen experimentellen Anforderungen präzise zu erfüllen.
Sind Sie bereit, Ihre Forschung mit unserem geneigten rotierenden PECVD-Rohrofen auf die nächste Stufe zu heben? Unsere Experten stehen Ihnen zur Verfügung, um Ihre spezifische Anwendung zu besprechen, Anpassungsmöglichkeiten zu prüfen oder ein detailliertes Angebot zu erstellen. Kontaktieren Sie uns noch heute, um mehr zu erfahren!
Vertraut von Branchenführern
FAQ
Was Sind Die Hauptanwendungen Eines Drehrohrofens?
Was Ist Ein Rohrofen Und Wie Funktioniert Er?
Wofür Wird Eine PECVD-Anlage Verwendet?
Was Ist Das Prinzip Eines Drehofens?
Wofür Wird Ein Drehrohrofen Verwendet?
Was Ist Das Prinzip Einer CVD-Anlage?
Was Ist Das Prinzip Einer MPCVD-Anlage?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Mehrzonen-Rohröfen?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Eines Drehrohrofens?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Rohröfen?
Was Sind Die Wichtigsten Typen Von PECVD-Anlagen?
Welche Haupttypen Von Drehrohröfen Gibt Es?
Welche Vorteile Bietet Die Verwendung Einer CVD-Anlage?
Was Sind Die Vorteile Einer MPCVD-Anlage?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Von Mehrzonen-Rohröfen?
Wie Funktioniert Ein Drehrohrofen?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Rohrofens?
Wie Funktioniert Eine PECVD-Anlage?
Was Sind Die Anwendungen Einer CVD-Maschine?
Was Sind Die Wichtigsten Anwendungen Von MPCVD-Maschinen?
Wie Funktioniert Ein Mehrzonen-Rohrofen?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Drehrohrofens?
Welche Arten Von Rohröfen Gibt Es?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Einer PECVD-Anlage?
Was Sind Die Häufigsten Anwendungen Eines Drehrohrofens?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Drehofens?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Einer CVD-Anlage?
Was Sind Die Hauptbestandteile Einer MPCVD-Anlage?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Mehrzonen-Rohrofens?
Welche Temperatur Kann Ein Drehrohrofen Erreichen?
Welche Temperaturbereiche Können Rohröfen Erreichen?
Welche Vorteile Bietet Die Verwendung Einer PECVD-Anlage?
Wie Behandelt Ein Drehrohrofen Unterschiedliche Materialien?
Welche Sicherheitsmerkmale Sind In Drehrohröfen Enthalten?
Welche Arten Von CVD-Anlagen Gibt Es?
Wie Verbessert Eine MPCVD-Anlage Die Energieeffizienz?
Welche Arten Von Mehrzonen-Rohröfen Gibt Es?
Welche Arten Von Materialien Können In Einem Drehrohrofen Verarbeitet Werden?
Können Rohröfen Unter Verschiedenen Atmosphären Betrieben Werden?
Welche Materialien Können Mit Einer PECVD-Anlage Abgeschieden Werden?
Können Drehrohröfen Für Bestimmte Anwendungen Angepasst Werden?
Warum Wird MPCVD Für Das Wachstum Von Diamanten Bevorzugt?
Was Macht KINTEK-Röhrenöfen So Besonders?
Warum Ist PECVD Anderen Abscheidungsmethoden Vorzuziehen?
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