Muffel-, Rohr-, Vakuum- und Atmosphärenöfen | CVD/PECVD-Systeme - komplette thermische Lösungen für Ihre Forschung.
KinTek offers a comprehensive range of high-temperature furnaces—from lab and pilot to industrial production scales—operating up to 3000°C. A key KinTek advantage is the expert design and manufacturing of custom-made furnaces tailored to specific application needs, incorporating features such as diverse heating methods and ramp rates, ultra-high and dynamic vacuum systems, precisely controlled atmospheres with specialized gas circuits, integrated automation, and dedicated software and hardware development for advanced functionality.
Details anzeigenWir sind stolz darauf, Kunden weltweit zu bedienen
Ein Vakuumofen ist mehr als nur eine heiße Kiste; er ist ein System von Kompromissen, das darauf ausgelegt ist, eine perfekte, kontaminationsfreie Umgebung für Materialien zu schaffen.
Ein 70-mm-Rohröfen ist mehr als nur Hitze; er ist eine kontrollierte Umgebung, in der der Durchmesser das Gleichgewicht zwischen Forschungspräzision und Produktionsmaßstab bestimmt.
Vakuumöfen bieten mehr als nur Reinheit; sie ermöglichen eine absolute Kontrolle über die Umgebung eines Materials und verhindern unsichtbare Reaktionen, um sein Potenzial freizusetzen.
Röhrenöfen bieten die für Halbleiterprozesse wie Dotierung, Oxidation und Ausheilen unerlässliche atomare Kontrolle über Temperatur und Atmosphäre.
Vakuumöfen dienen nicht nur der Hitze; sie schaffen einen kontrollierten Hohlraum, um Oxidation zu vermeiden und Materialeigenschaften zu erzielen, die in Luft nicht erreichbar sind.
Rohröfen erzeugen überlegenes Glas und Keramik nicht nur durch Hitze, sondern durch präzise atmosphärische Kontrolle, die Oxidation verhindert und fortschrittliche Prozesse ermöglicht.
Entdecken Sie, wie Vakuumlöten starke, saubere, verzugsfreie Verbindungen erzeugt, indem Oxidation eliminiert und thermische Spannungen in einem kontrollierten Ofen beherrscht werden.
Ein tiefer Einblick, wie das Design eines Rohrofens Präzision beherrscht, indem es die Wärmequelle von einer kontrollierten, isolierten Probenumgebung trennt.