
CVD & PECVD Furnace
CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation CVD-Maschine
Artikelnummer : KT-CTF12
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Max. Temperatur
- 1200℃
- Durchmesser des Ofenrohrs
- 60 mm
- Heizrate
- 0-20℃/min

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Details&Teile




Einführung
Dank hervorragender Forschung und Entwicklung und eigener Fertigung liefert KINTEK fortschrittliche Hochtemperatur-Ofenlösungen, die auf die unterschiedlichsten Laboranforderungen zugeschnitten sind. Der CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation ist ein Beispiel dafür. Er bietet ein vielseitiges und leistungsstarkes System, das sorgfältig für anspruchsvolle CVD-Anwendungen (Chemical Vapor Deposition) entwickelt wurde.
Dieser Ofen ist auf Präzision und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt. Zu den wichtigsten Merkmalen, von denen Ihre Forschung profitiert, gehören:
- Geteilte Ofenkammer: Ermöglicht einen einfachen Zugang zu den Reaktionsproben und erleichtert eine schnelle Abkühlung, was die experimentelle Effizienz und den Durchsatz erheblich steigert.
- Hochtemperatur-Fähigkeit: Verwendet ein hochreines Quarzrohr (Standarddurchmesser 60 mm, anpassbare Optionen erhältlich), das für Prozesse geeignet ist, die Temperaturen bis zu 1200 °C erfordern.
- Präzise Gassteuerung: Ausgestattet mit einem 4-Kanal-MFC-Massendurchflussmesser, der eine genaue und stabile Zufuhr von Quellgasen wie CH4, H2, O2 und N2 für gleichbleibende Prozessergebnisse gewährleistet.
- Integrierte Vakuumstation: Verfügt über eine robuste 4L/S-Drehschieber-Vakuumpumpe, die einen maximalen Vakuumdruck von 10 Pa erreichen kann und somit eine optimale Umgebung für verschiedene Vakuumprozesse gewährleistet.
Wir bei KINTEK wissen, dass einzigartige experimentelle Anforderungen flexible Lösungen erfordern. Dank unserer ausgeprägten Fähigkeit zur kundenspezifischen Anpassung ist dieses System mit fortschrittlichen Funktionen ausgestattet, die sich ideal für die Materialwissenschaft, die Halbleiterverarbeitung und bahnbrechende Forschungs- und Entwicklungsarbeiten eignen, und wir können es darüber hinaus an Ihre speziellen Anforderungen anpassen. Unser Fachwissen erstreckt sich über eine umfassende Produktlinie, einschließlich Muffel-, Rohr- und Drehrohröfen, Vakuum- und Atmosphärenöfen sowie fortschrittliche CVD/PECVD/MPCVD-Systeme, so dass wir Ihnen die perfekte Lösung für Ihre Arbeit bieten können.
Sind Sie bereit, Ihre Forschungskapazitäten zu erweitern oder eine kundenspezifische Konfiguration für Ihre CVD-Prozesse zu besprechen? Kontaktieren Sie noch heute unsere Spezialisten um zu erfahren, wie der CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer an Ihre genauen experimentellen Anforderungen angepasst werden kann, und um ein Angebot anzufordern.
Anwendungen
Der CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation ist ein vielseitiges und fortschrittliches Gerät, das für eine Vielzahl von Anwendungen in den Bereichen Materialwissenschaft, Halbleiterherstellung sowie Forschung und Entwicklung konzipiert wurde. Diese Maschine ist besonders nützlich für Prozesse, die eine präzise Steuerung von Temperatur, Gasfluss und Vakuum erfordern, was sie zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die hochwertige Materialsynthese und -verarbeitung macht.
- Synthese von Nanomaterialien: Der Ofen ist ideal für das Wachstum von Nanodrähten, Nanofilmen und anderen nanostrukturierten Materialien, die für die Entwicklung fortschrittlicher elektronischer und optoelektronischer Geräte entscheidend sind.
- Vakuum-Beschichtung: Der Ofen wird in großem Umfang für die Abscheidung dünner Schichten auf verschiedenen Substraten verwendet, darunter Metallschichten, Keramikschichten und Verbundschichten, die für die Verbesserung der Eigenschaften von Materialien in Anwendungen wie Optik und Elektronik unerlässlich sind.
- Verarbeitung von Batteriematerial: Der Ofen eignet sich zum Trocknen und Sintern von Batteriematerialien, was ein entscheidender Schritt bei der Herstellung von Hochleistungsbatterien ist.
- Materialtrocknung und -sinterung: Der Ofen wird für das Hochtemperatursintern von Keramik, feuerfesten Materialien und Spezialwerkstoffen eingesetzt und gewährleistet die Verfestigung und Verdichtung dieser Materialien.
- Atmosphären- und Vakuum-Wärmebehandlung: Die Konfiguration des Vertikalrohrofens ermöglicht das Abschrecken, Glühen und Anlassen kleiner Stahlteile sowie die vertikale CVD-Beschichtung, was ihn zu einem wertvollen Instrument für metallurgische Prozesse macht.
- Forschung und Entwicklung: Der Ofen wird in Universitäten, Forschungsinstituten, Industrie- und Bergbauunternehmen zur Durchführung von Hochtemperaturexperimenten, Atmosphärensintern, reduzierenden Atmosphären und CVD/CVI-Experimenten eingesetzt und trägt so zum Fortschritt der Materialwissenschaft und -technologie bei.
Merkmale
Der CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation ist ein hochentwickeltes Gerät, das für fortschrittliche CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition) entwickelt wurde. Dieser Ofen ist mit modernster Technologie ausgestattet, um die Effizienz und Qualität der Schichtabscheidung zu verbessern, und eignet sich daher ideal für Forschung und industrielle Anwendungen. Hier sind die wichtigsten Merkmale und ihre Vorteile:
- Hohe Schichtabscheidungsrate: Durch den Einsatz von Hochfrequenz-Glühtechnik steigert dieser Ofen die Abscheidungsrate erheblich und erreicht bis zu 10Å/S. Diese schnelle Abscheidung ist entscheidend für Produktion und Forschung mit hohem Durchsatz, spart Zeit und erhöht die Produktivität.
- Großflächige Gleichmäßigkeit: Mit fortschrittlicher Mehrpunkt-HF-Zufuhrtechnologie und spezieller Gaswegverteilung gewährleistet der Ofen eine Schichtgleichmäßigkeit von bis zu 8 %. Diese Gleichmäßigkeit ist entscheidend für die Erzeugung gleichmäßiger und hochwertiger Beschichtungen auf großen Substraten und erhöht die Zuverlässigkeit der hergestellten Materialien.
- Konsistente Beschichtung: Das Design beinhaltet fortschrittliche Konzepte der Halbleiterindustrie, was zu einer Abweichung von weniger als 2 % zwischen den Substraten führt. Dieses hohe Maß an Konsistenz ist von entscheidender Bedeutung für Anwendungen, die präzise und wiederholbare Ergebnisse erfordern, wie z. B. bei der Herstellung von elektronischen Komponenten.
- Stabile Prozesskontrolle: Die hohe Stabilität der Anlage gewährleistet die Kontinuität und Konsistenz des CVD-Prozesses. Diese Zuverlässigkeit ist entscheidend für die Aufrechterhaltung der Prozessintegrität und die Verringerung des Risikos von Defekten oder Ausfällen während des Betriebs.
- Intelligentes Steuerungssystem: Das von Bonage patentierte integrierte Steuersystem umfasst ein hochleistungsfähiges Temperaturregelsystem, das einen geschlossenen Regelkreis mit negativer Rückkopplung verwendet. Dieses System, kombiniert mit hochwertigen importierten elektrischen Komponenten, verbessert die Gesamtleistung und Zuverlässigkeit des Geräts und macht es praktisch wartungsfrei.
- Vielseitige Anwendungen: Der Ofen eignet sich für die Abscheidung verschiedener Filmtypen, darunter Metall-, Keramik- und Verbundfilme. Er unterstützt kontinuierliche Wachstumsprozesse und kann leicht um zusätzliche Funktionen wie Plasmareinigung und Ätzen erweitert werden. Diese Vielseitigkeit macht ihn zu einem wertvollen Hilfsmittel für verschiedene Forschungs- und Produktionsanforderungen.
Prinzip
Der CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation ist ein Hochtemperatur-Vakuumofen, der für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) eingesetzt wird. CVD ist ein Verfahren, bei dem eine dünne Materialschicht durch die chemische Reaktion eines Gases oder Dampfes auf einem Substrat abgeschieden wird. Die CVD-Maschine mit geteilter Ofenkammer und Vakuumstation verfügt über eine geteilte Ofenkammer, die einen einfachen Zugang zum Substrat während des CVD-Prozesses ermöglicht. Die Vakuumstation dient zur Erzeugung eines Vakuums in der Ofenkammer, das dazu beiträgt, Verunreinigungen zu entfernen und die Qualität der abgeschiedenen Schicht zu verbessern.
Vorteile
- Intuitive Probenbeobachtung und schnelle Abkühlung: Die geteilte Ofenkammer ermöglicht eine direkte Beobachtung der Reaktionsproben und eine schnelle Abkühlung.
- Hohe Temperaturbeständigkeit: Maximale Arbeitstemperatur von bis zu 1200℃ für vielseitige Anwendungen.
- Präzise Gassteuerung: 4-Kanal-MFC-Massendurchflussmesser mit CH4-, H2-, O2- und N2-Quellen gewährleistet eine genaue und stabile Gaszufuhr.
- Vakuum-Kompatibilität: Die Vakuumstation mit einer 4L/S-Drehschieber-Vakuumpumpe erreicht einen maximalen Vakuumdruck von bis zu 10Pa und ermöglicht verschiedene Vakuumprozesse.
- Hochgeschwindigkeitsheizen und -kühlen: Das Gleitsystem der Ofenkammer ermöglicht ein schnelles Aufheizen und Abkühlen für eine effiziente Probenverarbeitung.
- Fortschrittliche Temperaturregelung: Programmierbare PID-Temperaturregelung mit hervorragender Genauigkeit, Fernsteuerung und zentraler Kontrollmöglichkeit.
- Benutzerfreundliche Schnittstelle: Der CTF Pro-Controller mit 7-Zoll-TFT-Touchscreen ermöglicht eine intuitive Programmeinstellung und Datenanalyse.
- Vielseitiger Vakuumaufbau: Der Edelstahl-Vakuumflansch mit anpassbaren Anschlüssen ermöglicht den Einsatz verschiedener Vakuumpumpstände für individuelle Vakuumumgebungen.
- Energieeffizient: Das Wasserkühlsystem und die Gasnachströmung minimieren den Energieverbrauch.
- Breite Anwendbarkeit: Geeignet für CVD, Diffusion und andere Thermobehandlungen unter Vakuum und Schutzatmosphäre.
Sicherheitsvorteil
- Der Kindle Tech Rohrofen verfügt über eine Überstromschutz- und Übertemperaturalarmfunktion, der Ofen schaltet sich automatisch ab
- Der Ofen verfügt über eine Funktion zur Erkennung von thermischen Kopplungen, der Ofen stoppt die Heizung und ein Alarm wird ausgelöst, sobald ein Bruch oder eine Störung erkannt wird.
- KT-CTF12 Pro unterstützt die Neustartfunktion bei Stromausfall, der Ofen nimmt das Heizprogramm wieder auf, wenn die Stromversorgung nach dem Ausfall wiederhergestellt ist
Technische Daten
Modell des Ofens | KT-CTF12-60 |
---|---|
Max. Temperatur | 1200℃ |
Konstante Arbeitstemperatur | 1100℃ |
Material des Ofenrohrs | Hochreiner Quarz |
Durchmesser des Ofenrohrs | 60 mm |
Länge der Heizzone | 1x450mm |
Material der Kammer | Japanische Tonerdefaser |
Heizelement | Cr2Al2Mo2-Drahtschlange |
Heizrate | 0-20℃/min |
Thermisches Paar | Eingebauter K-Typ |
Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/PID-Regler mit Touchscreen |
Genauigkeit der Temperaturregelung | ±1℃ |
Schiebeabstand | 600mm |
Präzise Gasregelungseinheit | |
Durchflussmesser | MFC-Massendurchflussmesser |
Gas-Kanäle | 4 Kanäle |
Durchflussmenge |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
Linearität | ±0,5% F.S. |
Reproduzierbarkeit | ±0,2% V.E. |
Rohrleitung und Ventil | Rostfreier Stahl |
Maximaler Betriebsdruck | 0,45MPa |
Steuerung des Durchflussmessers | Digitaler Drehregler/Touchscreen-Controller |
Standard-Vakuumeinheit (optional) | |
Vakuumpumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe |
Durchflussmenge der Pumpe | 4L/S |
Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
Vakuummeter | Pirani/Resistance Silikon-Vakuummeter |
Nennvakuumdruck | 10Pa |
Hochvakuumeinheit (optional) | |
Vakuumpumpe | Drehschieberpumpe+Molekularpumpe |
Durchflussmenge der Pumpe | 4L/S+110L/S |
Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
Vakuummeter | Zusammengesetztes Vakuummeter |
Nennvakuumdruck | 6x10-5Pa |
Die oben genannten Spezifikationen und Konfigurationen können angepasst werden |
Standard-Paket
Nr. | Beschreibung | Menge |
---|---|---|
1 | Ofen | 1 |
2 | Quarzrohr | 1 |
3 | Vakuumflansch | 2 |
4 | Thermoblock der Röhre | 2 |
5 | Rohr Thermoblockhaken | 1 |
6 | Hitzebeständiger Handschuh | 1 |
7 | Präzise Gassteuerung | 1 |
8 | Vakuumeinheit | 1 |
9 | Betriebsanleitung | 1 |
Optionale Einrichtung
- Erkennung und Überwachung von Gasen im Rohr, wie H2, O2 und so weiter
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485 Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Kontrolle der Gaszufuhr, wie Massedurchflussmesser und Schwebekörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen bedienerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuum-Pumpenstation, z.B. Flügelzellen-Vakuumpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Wenn Sie Fragen zu kundenspezifischen Anpassungen haben oder mehr darüber erfahren möchten, wie KINTEK Ihre spezifischen Forschungsanforderungen unterstützen kann, füllen Sie bitte füllen Sie bitte unser Kontakt-Formular aus oder wenden Sie sich an unser Expertenteam.
FAQ
Was Ist Ein Rohrofen Und Wie Funktioniert Er?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Mehrzonen-Rohröfen?
Was Ist Das Prinzip Einer MPCVD-Anlage?
Wofür Wird Eine PECVD-Anlage Verwendet?
Was Sind Die Hauptanwendungen Eines Vakuumofens?
Was Ist Ein Vertikalrohrofen?
Wofür Wird Ein Atmosphärenofen Verwendet?
Was Ist Ein Vakuum-Induktionsofen?
Was Ist Das Prinzip Einer CVD-Anlage?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Rohröfen?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Von Mehrzonen-Rohröfen?
Was Sind Die Vorteile Einer MPCVD-Anlage?
Was Sind Die Wichtigsten Typen Von PECVD-Anlagen?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Eines Vakuumofens?
Was Sind Die Anwendungen Eines Vertikalrohrofens?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Eines Atmosphärenofens?
Was Sind Die Wichtigsten Anwendungen Von Vakuum-Induktionsöfen?
Welche Vorteile Bietet Die Verwendung Einer CVD-Anlage?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Rohrofens?
Wie Funktioniert Ein Mehrzonen-Rohrofen?
Was Sind Die Wichtigsten Anwendungen Von MPCVD-Maschinen?
Wie Funktioniert Eine PECVD-Anlage?
Wie Funktioniert Ein Vakuumofen?
Was Sind Die Vorteile Eines Vertikalrohrofens?
Wie Funktioniert Ein Atmosphärenofen?
Wie Funktioniert Ein Vakuum-Induktionsofen?
Was Sind Die Anwendungen Einer CVD-Maschine?
Welche Arten Von Rohröfen Gibt Es?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Mehrzonen-Rohrofens?
Was Sind Die Hauptbestandteile Einer MPCVD-Anlage?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Einer PECVD-Anlage?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Vakuumofens?
Wie Funktioniert Ein Vertikalrohrofen?
Was Sind Die Vorteile Eines Atmosphärenofens?
Welche Vorteile Hat Der Einsatz Eines Vakuum-Induktionsofens?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Einer CVD-Anlage?
Welche Temperaturbereiche Können Rohröfen Erreichen?
Welche Arten Von Mehrzonen-Rohröfen Gibt Es?
Wie Verbessert Eine MPCVD-Anlage Die Energieeffizienz?
Welche Vorteile Bietet Die Verwendung Einer PECVD-Anlage?
Welche Arten Von Materialien Können In Einem Vakuumofen Verarbeitet Werden?
Welche Arten Von Vertikalrohröfen Gibt Es?
Welche Arten Von Gasen Können In Einem Atmosphärenofen Verwendet Werden?
Welche Arten Von Vakuum-Induktionsöfen Gibt Es?
Welche Arten Von CVD-Anlagen Gibt Es?
Können Rohröfen Unter Verschiedenen Atmosphären Betrieben Werden?
Warum Wird MPCVD Für Das Wachstum Von Diamanten Bevorzugt?
Welche Materialien Können Mit Einer PECVD-Anlage Abgeschieden Werden?
Was Ist Der Unterschied Zwischen Heißwand- Und Kaltwand-Vakuumöfen?
Warum Sollte Man Einen Vertikalen Rohrofen Einem Horizontalen Ofen Vorziehen?
Welche Sicherheitsvorkehrungen Sind In Modernen Atmosphärenöfen Vorhanden?
Warum Ist Die Temperaturregelung In Vakuum-Induktionsöfen So Wichtig?
Was Macht KINTEK-Röhrenöfen So Besonders?
Warum Ist PECVD Anderen Abscheidungsmethoden Vorzuziehen?
Können Vakuumöfen Für Bestimmte Anwendungen Angepasst Werden?
Welche Temperaturbereiche Können Mit Vertikalrohröfen Erreicht Werden?
Welche Materialien Können In Einem Vakuum-Induktionsofen Bearbeitet Werden?
Sind Vertikalrohröfen Anpassbar?
Welche Vorteile Bietet Die Vakuumumgebung Für Die Materialverarbeitung?
4.9
out of
5
Incredible precision and speed! This furnace exceeded my expectations for lab efficiency.
4.8
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5
Top-notch quality and durability. A game-changer for our research team!
4.7
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5
Fast delivery and easy setup. The vacuum station works flawlessly.
4.9
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5
Worth every penny! The split chamber design is a brilliant innovation.
4.8
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5
Perfect for high-temperature applications. Highly recommend for advanced labs.
4.9
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5
Exceptional performance and reliability. Our experiments have never been smoother.
4.7
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5
Love the compact design! Saves space without compromising on power.
4.8
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5
The vacuum seal is impeccable. No leaks, no issues—just perfect results.
4.9
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Cutting-edge technology at its finest. A must-have for serious researchers.
4.8
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5
Superb value for money. The build quality is outstanding.
4.7
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5
Quick and efficient service. The furnace arrived in perfect condition.
4.9
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5
The split chamber feature is revolutionary. Makes multitasking a breeze.
4.8
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5
Reliable and consistent performance. Our lab productivity has soared.
4.7
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Easy to operate and maintain. A fantastic investment for any lab.
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The temperature control is spot-on. Perfect for delicate experiments.
4.8
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Durable and built to last. This machine is a workhorse.
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Innovative design meets superior functionality. Absolutely love it!
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CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation CVD-Maschine
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