CVD & PECVD Ofen
Geneigte Dreh-Plasma-unterstützte Chemische Gasphasenabscheidung PECVD Röhrenofenmaschine
Artikelnummer : KT-PED
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Heiztemperatur
- ≤800℃
- Vakuumgrad
- ≤5×10-5Pa
- Ausgangsleistung
- 500W—1000W
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Plasma-unterstützte Chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) Beschichtungsmaschine


Fortschrittliche PECVD-Systeme von KINTEK: Präzisionsbeschichtung, auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten
Durch außergewöhnliche F&E und eigene Fertigung liefert KINTEK hochmoderne Plasma-unterstützte Chemische Gasphasenabscheidungssysteme (PECVD), die für verschiedene Labor- und Industrieanwendungen konzipiert sind. PECVD ist eine anspruchsvolle Vakuum-Dünnschichtabscheidungstechnik, die Plasma zur Aktivierung von Vorläufergasen einsetzt. Dies ermöglicht die Erzeugung hochwertiger, gleichmäßiger Beschichtungen bei deutlich niedrigeren Temperaturen als bei der traditionellen Chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), was die Möglichkeiten für wärmeempfindliche Substrate (wie Kunststoffe) und eine Vielzahl von Beschichtungsmaterialien (einschließlich Dielektrika, Halbleiter und Isolatoren) erweitert.
Unsere PECVD-Maschinen sind ein Kernangebot innerhalb von KINTEKs umfassendem Portfolio fortschrittlicher Hochtemperaturofenlösungen, zu denen auch Muffel-, Rohr-, Drehöfen, Vakuum- & Atmosphärenöfen und andere CVD/MPCVD-Systeme gehören. Wir sind stolz auf unsere starke Fähigkeit zur tiefgreifenden Anpassung und stellen sicher, dass Ihr PECVD-System genau auf Ihre einzigartigen experimentellen und Produktionsanforderungen zugeschnitten ist.
Hauptmerkmale
KINTEKs Plasma-unterstützte Chemische Gasphasenabscheidungs- (PECVD) Beschichtungsmaschinen bieten eine Reihe von Funktionen, die für überlegene Leistung und Vielseitigkeit ausgelegt sind:
- Niedertemperaturabscheidung: Ermöglicht die Bildung hochwertiger Schichten auf empfindlichen oder niedrig schmelzenden Substraten ohne thermische Schäden und erweitert die Materialkompatibilität erheblich.
- Hohe Abscheideraten: Ermöglicht schnelles Schichtwachstum, maximiert den Durchsatz, reduziert die Prozesszeit und steigert die Gesamtproduktivität.
- Gleichmäßige und rissbeständige Schichten: Erzeugt Beschichtungen mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit in Dicke und Eigenschaften über das Substrat hinweg, minimiert Defekte wie Risse für zuverlässige und dauerhafte Ergebnisse.
- Hervorragende Substrathaftung: Gewährleistet eine starke Bindung zwischen der abgeschiedenen Schicht und dem Substratmaterial, was zu langlebiger Leistung führt und ein Delaminieren verhindert.
- Vielseitige Beschichtungsfähigkeiten: Unterstützt die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien wie SiO2, SiNx, SiOxNy und mehr, um verschiedenen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden.
- Konforme Beschichtung komplexer Geometrien: In der Lage, Substrate mit komplexen Formen und Topografien gleichmäßig zu beschichten und so eine umfassende Abdeckung und optimale Leistung sicherzustellen.
- Benutzerfreundliches Design: Konzipiert für geringen Wartungsaufwand und unkomplizierte Installation, minimiert Ausfallzeiten und vereinfacht die Integration in Ihren Arbeitsablauf.
Technische Spezifikationen
| Probenhalter | Größe | 1-6 Zoll |
| Drehgeschwindigkeit | 0-20 U/min einstellbar | |
| Heiztemperatur | ≤800℃ | |
| Regelgenauigkeit | ±0,5℃ SHIMADEN PID-Regler | |
| Gasdurchspülung | Durchflussmesser | MASSENSTROMREGELUNG (MFC) |
| Kanäle | 4 Kanäle | |
| Kühlmethode | Umlaufwasserkühlung | |
| Vakuumkammer | Kammergröße | Φ500mm X 550mm |
| Beobachtungsfenster | Vollsichtfenster mit Blende | |
| Kammerwerkstoff | Edelstahl 316 | |
| Türtyp | Vorne öffnende Tür | |
| Deckelwerkstoff | Edelstahl 304 | |
| Vakuumpumpenanschluss | CF200 Flansch | |
| Gaseinlassanschluss | φ6 VCR-Anschluss | |
| Plasmaleistung | Quellenleistung | Gleichstrom- oder Hochfrequenzleistung |
| Kopplungsmodus | Induktiv oder plattenkapazitiv | |
| Ausgangsleistung | 500W—1000W | |
| Bias-Leistung | 500V | |
| Vakuumpumpe | Vorvakuumpumpe | 15L/S Flügelzellen-Vakuumpumpe |
| Turbopumpenanschluss | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| Entlüftungsanschluss | KF25 | |
| Pumpgeschwindigkeit | Flügelzellenpumpe:15L/s,Turbopumpe:1200l/s或1600l/s | |
| Vakuumgrad | ≤5×10-5Pa | |
| Vakuumsensor | Ionisations-/Widerstandsvakuummeter/Schichtdickenmessgerät | |
| System | Stromversorgung | AC 220V /380 50Hz |
| Nennleistung | 5kW | |
| Abmessungen | 900mm X 820mm X870mm | |
| Gewicht | 200kg |
Anwendungen
Plasma-unterstützte Chemische Gasphasenabscheidungs- (PECVD) Beschichtungsmaschinen von KINTEK bieten eine vielseitige Lösung für eine breite Palette von Branchen und zukunftsweisenden Anwendungen:
- LED-Beleuchtung: Abscheidung hochwertiger dielektrischer und halbleitender Schichten, die für effiziente und langlebige Leuchtdioden (LEDs) entscheidend sind.
- Leistungshalbleiter: Bildung von Isolierschichten, Gate-Oxiden und anderen kritischen Schichtkomponenten in Leistungshalbleiterbauelementen.
- MEMS (Mikroelektromechanische Systeme): Herstellung präziser Dünnschichten für Sensoren, Aktoren und andere mikroskalige Bauteile.
- Optische Beschichtungen: Abscheidung von Antireflexschichten, optischen Filtern, Schutzschichten und anderen funktionalen optischen Komponenten.
- Dünnschicht-Solarzellen: Herstellung von amorphen und mikrokristallinen Silizium-Dünnschichten sowie anderen Halbleitermaterialien für photovoltaische Bauelemente.
- Oberflächenmodifikation: Verbesserung der Materialoberflächeneigenschaften, einschließlich erhöhter Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit, Härte und Biokompatibilität.
- Nanotechnologie: Synthese fortschrittlicher Nanomaterialien wie Nanopartikel, Nanodrähte und ultradünne Schichten für neuartige Anwendungen.
Warum mit KINTEK für PECVD-Technologie zusammenarbeiten?
Die Wahl von KINTEK für Ihre PECVD-Anforderungen bedeutet Investition in Qualität, Zuverlässigkeit und maßgeschneiderte Lösungen:
- Tiefgreifende Anpassung: Wir sind darauf spezialisiert, PECVD-Systeme genau nach Ihren Spezifikationen zu konfigurieren und so eine optimale Leistung für Ihre einzigartigen Anwendungen und Forschungsziele sicherzustellen.
- Fortschrittliche F&E und Fertigung: Unsere interne Expertise treibt Innovationen voran und ermöglicht es uns, modernste PECVD-Technologie anzubieten.
- Hochwertige Konstruktion: Unsere Systeme zeichnen sich durch robuste Designs aus, die mit hochwertigen Materialien wie Edelstahl für Stabilität, Haltbarkeit und lange Lebensdauer gebaut sind.
- Zuverlässige Leistung: Für konstante Ergebnisse entwickelt, produzieren unsere PECVD-Maschinen hochwertige, gleichmäßige Dünnschichten mit hervorragender Haftung.
- Umfassende Unterstützung: Von der einfachen Installation bis zu geringen Wartungsanforderungen stellen wir sicher, dass unsere Systeme benutzerfreundlich sind und durch einen responsiven Kundendienst unterstützt werden.
- Vielseitigkeit: Unsere Maschinen können eine Vielzahl von Materialien abscheiden und sind somit für verschiedene Forschungs- und Industrieprozesse geeignet.
Funktionsprinzip
Plasma-unterstützte Chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) ist ein Verfahren, das Plasma (ein ionisiertes Gas) nutzt, um chemische Reaktionen während des Dünnschichtabscheidungsprozesses anzuregen und zu verstärken. Im Gegensatz zur konventionellen CVD, die allein auf hohe Temperaturen zur Initiierung von Reaktionen angewiesen ist, setzt PECVD hochenergetisches Plasma ein. Dieses Plasma energetisiert die Vorläufergase, was zur Bildung reaktiver Spezies bei deutlich niedrigeren Substrattemperaturen führt. Diese reaktiven Spezies adsorbieren dann an der Substratoberfläche und unterliegen chemischen Reaktionen, um eine feste Dünnschicht zu bilden. Diese Methode ermöglicht die Abscheidung verschiedener hochwertiger Schichten wie SiO2, SiNx und SiOxNy und ist besonders effektiv für die Herstellung amorpher oder mikrokristalliner Silizium-Dünnschichten, die in Solarzellen verwendet werden. Die niedrigeren Verarbeitungstemperaturen minimieren thermische Belastungen für Substrate, reduzieren Pinholes und verhindern Rissbildung, was PECVD ideal für eine breitere Palette von Materialien und Anwendungen macht.
Passen Sie Ihre PECVD-Lösung mit KINTEK an
Bereit, Ihre Dünnschichtabscheidungsfähigkeiten zu erweitern? Die Experten von KINTEK stehen bereit, um Ihre spezifischen Projektanforderungen und Herausforderungen zu besprechen. Wir können Ihnen helfen, ein Plasma-unterstütztes Chemisches Gasphasenabscheidungssystem zu konfigurieren, das perfekt auf Ihre experimentellen oder Produktionsanforderungen zugeschnitten ist. Profitieren Sie von unserer tiefgreifenden Anpassungsexpertise und fortschrittlichen Technologie, um überragende Ergebnisse zu erzielen.
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Vertraut von Branchenführern
FAQ
Was Sind Die Hauptanwendungen Eines Drehrohrofens?
Was Ist Ein Rohrofen Und Wie Funktioniert Er?
Was Ist Das Prinzip Eines Drehofens?
Wofür Wird Ein Drehrohrofen Verwendet?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Mehrzonen-Rohröfen?
Was Sind Die Häufigsten Anwendungen Eines Geteilten Rohrofens?
Was Ist Ein Vertikalrohrofen?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Eines Drehrohrofens?
Was Sind Die Hauptanwendungen Von Rohröfen?
Welche Haupttypen Von Drehrohröfen Gibt Es?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Von Mehrzonen-Rohröfen?
Was Sind Die Wichtigsten Merkmale Eines Spaltrohrofens?
Was Sind Die Anwendungen Eines Vertikalrohrofens?
Wie Funktioniert Ein Drehrohrofen?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Rohrofens?
Wie Funktioniert Ein Mehrzonen-Rohrofen?
Wie Funktioniert Ein Spaltrohrofen?
Was Sind Die Vorteile Eines Vertikalrohrofens?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Drehrohrofens?
Welche Arten Von Rohröfen Gibt Es?
Was Sind Die Häufigsten Anwendungen Eines Drehrohrofens?
Welche Vorteile Bietet Der Einsatz Eines Drehofens?
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Wie Funktioniert Ein Vertikalrohrofen?
Welche Temperatur Kann Ein Drehrohrofen Erreichen?
Welche Temperaturbereiche Können Rohröfen Erreichen?
Wie Behandelt Ein Drehrohrofen Unterschiedliche Materialien?
Welche Sicherheitsmerkmale Sind In Drehrohröfen Enthalten?
Welche Arten Von Mehrzonen-Rohröfen Gibt Es?
Welche Temperatur Kann Ein Spaltrohrofen Erreichen?
Welche Arten Von Vertikalrohröfen Gibt Es?
Welche Arten Von Materialien Können In Einem Drehrohrofen Verarbeitet Werden?
Können Rohröfen Unter Verschiedenen Atmosphären Betrieben Werden?
Können Drehrohröfen Für Bestimmte Anwendungen Angepasst Werden?
Warum Ist Das Geteilte Design In Einem Rohrofen Von Vorteil?
Warum Sollte Man Einen Vertikalen Rohrofen Einem Horizontalen Ofen Vorziehen?
Was Macht KINTEK-Röhrenöfen So Besonders?
Welche Temperaturbereiche Können Mit Vertikalrohröfen Erreicht Werden?
Sind Vertikalrohröfen Anpassbar?
Produktdatenblatt
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