Welche Prozessbedingungen Liefert Das Geschmolzene Naoh-Koh-System? Hochtemperatur-Salzätzen Zur Siliziumrückgewinnung

Das geschmolzene Natriumhydroxid-Kaliumhydroxid (NaOH-KOH)-System fungiert als chemisches Medium bei hoher Temperatur und hoher Reaktivität, das darauf ausgelegt ist, Oberflächenverunreinigungen von Siliziumwafern aggressiv zu entfernen. Durch die Nutzung einer geschmolzenen starken Laugeumgebung liefert dieser Prozess die notwendige thermische und chemische Energie, um robuste Materialien wie Siliziumnitrid und Siliziumdioxid zu zersetzen.

Der Hauptzweck dieses Systems ist die Nutzung erhöhter Temperaturen und starker Alkalität, um Schutzschichten abzutragen, was zu sauberen Siliziumwafern und der vorläufigen Trennung von Metallen führt.

Welche Prozessbedingungen liefert das geschmolzene NaOH-KOH-System? Hochtemperatur-Salzätzen zur Siliziumrückgewinnung

Die Rolle des geschmolzenen Mediums

Hochtemperatur-Reaktivität

Die primäre Bedingung, die dieses System liefert, ist eine Umgebung mit hoher reaktiver Aktivität.

Der geschmolzene Zustand ermöglicht es den starken Laugen, energetischer mit der Waferoberfläche zu interagieren, als sie es in einer wässrigen Lösung tun würden.

Diese erhöhte Temperatur ist nicht nur ein Nebenprodukt, sondern eine Voraussetzung, um den chemischen Abtragsprozess einzuleiten.

Chemischer Abtrag von Oberflächenschichten

Das Medium ist speziell darauf abgestimmt, verschiedene Schichten auf Solar-Siliziumwafern anzugreifen und zu entfernen.

Es trägt effektiv die Siliziumnitrid-Antireflexionsschicht und Siliziumdioxid chemisch ab.

Zusätzlich entfernt es Aluminiumverunreinigungsschichten und stellt sicher, dass das darunter liegende Silizium freigelegt und gereinigt wird.

Erreichung der Materialtrennung

Vorbereitung für die Metallrückgewinnung

Über die Reinigung des Wafers hinaus schafft das System die notwendigen Bedingungen für die Ressourcengewinnung.

Der Prozess ermöglicht die vorläufige Trennung von Silber- und Aluminiummetallen.

Durch das Auflösen von Aluminium und das Ablösen von Bindungsschichten isoliert das System diese Metalle für nachfolgende Rückgewinnungsschritte.

Gezielte Waferreinigung

Das ultimative physikalische Ergebnis dieser Bedingungen ist ein "sauberer" Siliziumwafer.

Die geschmolzene Salzumgebung entfernt den komplexen Stapel von Herstellungsbeschichtungen, die den Wafer für das direkte Recycling unbrauchbar machen.

Verständnis der operativen Dynamik

Aggressive chemische Natur

Es ist wichtig zu erkennen, dass es sich hierbei um ein starkes Laugensystem handelt.

Die Bedingungen sind von Natur aus aggressiv, um den Abbau chemisch beständiger Schichten wie Siliziumnitrid zu gewährleisten.

Die thermische Anforderung

Der Erfolg dieses Prozesses ist streng an den geschmolzenen Zustand gebunden.

Eine unzureichende Temperatur würde wahrscheinlich zu einem Verlust der reaktiven Aktivität führen und die Verunreinigungen oder Metalle nicht effektiv abtragen oder trennen.

Die richtige Wahl für Ihr Ziel treffen

Dieser Prozess ist hochspezialisiert für die Rückgewinnung wertvoller Materialien aus ausgedienten oder Schrott-Siliziumgeräten.

Wenn Ihr Hauptaugenmerk auf Wafer-Rückgewinnung liegt: Stellen Sie sicher, dass das System eine ausreichende Temperatur aufrechterhält, um die Siliziumnitrid- und Siliziumdioxid-Schichten vollständig abzutragen, ohne das Wafer-Substrat zu beschädigen.
Wenn Ihr Hauptaugenmerk auf Metallrückgewinnung liegt: Nutzen Sie die hochreaktive Umgebung, um Aluminiumverunreinigungen vollständig aufzulösen, was eine effiziente Isolierung von Silber ermöglicht.

Das geschmolzene NaOH-KOH-System liefert die intensive thermische und chemische Basis, die erforderlich ist, um komplexen Elektroschrott in rückgewinnbare Rohstoffe zu verwandeln.

Zusammenfassungstabelle:

Prozessbedingung	Beschreibung	Zielmaterialien
Zustand des Mediums	Geschmolzenes Natriumhydroxid-Kaliumhydroxid	Siliziumwafer (Schrott/ausgemustert)
Temperatur	Hochtemperatur-Thermische Energie	Siliziumnitrid (Si3N4)
Chemische Umgebung	Aggressive starke Lauge	Siliziumdioxid (SiO2)
Hauptfunktion	Chemischer Abtrag & Reinigung	Trennung von Aluminium & Silber
Rückgewinnungsziel	Vorläufige Metallisolierung	Hochreines Siliziumsubstrat

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