Wissen Wie behandelt das PECVD-System Passivierungsschichten in PERC-Solarzellen?Effizienzsteigerung mit präziser Plasmaabscheidung
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Technisches Team · Kintek Furnace

Aktualisiert vor 2 Tagen

Wie behandelt das PECVD-System Passivierungsschichten in PERC-Solarzellen?Effizienzsteigerung mit präziser Plasmaabscheidung

Das PECVD-System (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) spielt eine entscheidende Rolle bei der Abscheidung von Passivierungsschichten für PERC-Solarzellen (Passivated Emitter and Rear Cell).Diese Schichten erhöhen den Wirkungsgrad der Zellen, indem sie die Rekombinationsverluste verringern und die Lichtabsorption verbessern.Das System scheidet Aluminiumoxid- (AlOx) und Siliziumnitridschichten (SiNx:H) auf der Rück- bzw. Vorderseite in einer einzigen Anlage ab.Die Plasmaaktivierung ermöglicht eine Verarbeitung bei niedrigeren Temperaturen und gewährleistet einheitliche Schichteigenschaften und hohe Reinheit.Dies macht PECVD für die moderne Solarzellenherstellung unverzichtbar und verbindet Flexibilität, Präzision und Skalierbarkeit.

Die wichtigsten Punkte werden erklärt:

  1. Die Rolle von PECVD in PERC-Solarzellen

    • PECVD wird zur Abscheidung dielektrischer Passivierungsschichten auf beiden Seiten von PERC-Solarzellen verwendet.
    • Auf der Rückseite befindet sich eine dünne AlOx-Schicht, die mit SiNx:H bedeckt ist, während auf der Vorderseite SiNx:H zur Passivierung und Antireflexionsbeschichtung (ARC) verwendet wird.
    • Diese Schichten minimieren die Rekombination von Elektronen und Löchern und verbessern den Lichteinfang, wodurch die Effizienz gesteigert wird.
  2. Schlüsselmaterialien und ihre Funktionen

    • Aluminiumoxid (AlOx):Bietet aufgrund seiner hohen negativen festen Ladung eine hervorragende Oberflächenpassivierung und verringert die Rekombination auf der Rückseite.
    • Siliziumnitrid (SiNx:H):Wirkt als Wasserstoffquelle für die Defektpassivierung und dient als ARC zur Verringerung von Reflexionsverlusten.
    • Das plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung ermöglicht die sequentielle Abscheidung beider Materialien in einer einzigen Kammer, was den Durchsatz erhöht.
  3. Vorteile von PECVD gegenüber herkömmlicher CVD

    • Verarbeitung bei niedrigeren Temperaturen:Die Plasmaaktivierung ermöglicht die Abscheidung bei niedrigeren Temperaturen (oft unter 400 °C), was für hitzeempfindliche Substrate entscheidend ist.
    • Erhöhte Abscheideraten:Die energiereichen Elektronen im Plasma beschleunigen die chemischen Reaktionen und ermöglichen ein schnelleres Schichtwachstum.
    • Gleichmäßigkeit und Reinheit:Proprietäre Reaktordesigns gewährleisten eine gleichmäßige Gasverteilung und minimale Verunreinigungen, was für Hochleistungssolarzellen entscheidend ist.
  4. Mechanismus der Plasmaaktivierung

    • Das Plasma wird durch eine RF-, AC- oder DC-Entladung erzeugt, wobei Gasmoleküle ionisiert werden, um reaktive Spezies zu erzeugen.
    • Diese Energie treibt die Abscheidungsreaktionen an, ohne sich allein auf die Erwärmung des Substrats zu verlassen, wodurch die Materialintegrität erhalten bleibt.
  5. Systemflexibilität und Skalierbarkeit

    • PECVD kann verschiedene Materialien verarbeiten (Oxide, Nitride, Polymere) und ist somit für verschiedene Solarzellenarchitekturen geeignet.
    • Der modulare Aufbau unterstützt die Produktion in großem Maßstab und entspricht damit den Anforderungen der Industrie an eine Solarproduktion mit hohem Durchsatz.
  6. Vergleich mit anderen Techniken

    • Anders als bei der thermischen CVD wird bei der PECVD eine Zersetzung bei hohen Temperaturen vermieden, ähnlich wie bei der Vakuumdestillation, die hitzeempfindliche Verbindungen schützt.
    • Die Präzision des Verfahrens übertrifft die des Sputterns oder Verdampfens und gewährleistet eine optimale Schichtdichte und Haftung.

Durch die Integration dieser Merkmale lösen PECVD-Systeme die zentralen Herausforderungen bei der Herstellung von PERC-Solarzellen: Effizienz, Kosten und Skalierbarkeit.Haben Sie darüber nachgedacht, wie Fortschritte in der Plasmatechnologie diese Passivierungsschichten weiter verfeinern könnten?Solche Innovationen werden die Zukunft der erneuerbaren Energien bestimmen.

Zusammenfassende Tabelle:

Aspekt Einzelheiten
Wichtige Materialien AlOx (Rückseitenpassivierung), SiNx:H (Vorderseitenpassivierung & ARC)
Plasma Vorteile Verarbeitung bei niedriger Temperatur (<400°C), gleichmäßige Schichten, hohe Reinheit
System-Flexibilität Sequentielle Abscheidung in einer Kammer, skalierbar für die industrielle Produktion
Auswirkungen auf die Leistung Reduziert Rekombinationsverluste, verbessert den Lichteinfang und steigert den Wirkungsgrad der Zellen

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