Wissen Welchen Vakuum-Bereich kann eine Wasserstrahlpumpe erreichen? Optimieren Sie die Vakuumleistung Ihres Labors
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Furnace

Aktualisiert vor 2 Wochen

Welchen Vakuum-Bereich kann eine Wasserstrahlpumpe erreichen? Optimieren Sie die Vakuumleistung Ihres Labors

Kurz gesagt, eine Standard-Wasserstrahlpumpe erreicht einen Endvakuumwert im Bereich von 2000 bis 4000 Pascal (Pa). Dies entspricht 20 bis 40 Millibar (mbar) oder einem Manometerdruck von ungefähr -0,098 Megapascal (MPa). Dieses Niveau wird als Grob- oder Niedervakuum betrachtet und ist daher ideal für viele gängige Laboranwendungen wie Filtration, Aspiration und Rotationsverdampfung.

Obwohl die technische Spezifikation typischerweise bei etwa 20–40 mbar liegt, wird die tatsächliche Leistung einer Wasserpumpe fundamental durch den Dampfdruck des verwendeten Wassers begrenzt. Das Verständnis dieses Prinzips ist der Schlüssel zur Bestimmung, ob sie die Anforderungen Ihrer Anwendung erfüllt.

Wie eine Wasserpumpe ein Vakuum erzeugt

Eine Wasserstrahlpumpe, auch als Wasserringpumpe bekannt, ist ein einfaches und robustes Gerät. Sie verwendet Wasser als Arbeitsmedium, um Gasmoleküle aus einem geschlossenen Volumen zu entfernen.

Der „Flüssigkolben“-Mechanismus

Im Inneren der Pumpe dreht sich ein Laufrad exzentrisch in einem Gehäuse. Dies erzeugt einen Wasserring, der durch die Zentrifugalkraft an der Außenwand gehalten wird.

Da das Laufrad exzentrisch angeordnet ist, dehnt sich der Raum zwischen seinen Schaufeln und dem Wasserring kontinuierlich aus und zieht sich zusammen. Der sich ausdehnende Raum saugt Gas an (Ansaugen), und der sich zusammenziehende Raum komprimiert und stößt das Gas aus (Ausstoßen). Diese Aktion nutzt den Wasserring effektiv als eine Reihe von Flüssigkolben.

Der entscheidende begrenzende Faktor: Wasserdampfdruck

Das Endvakuum der Pumpe wird nicht durch ihr mechanisches Design, sondern durch die Physik des Wassers selbst begrenzt. Wenn der Druck im System sinkt, beginnt das Wasser in der Pumpe zu verdampfen (oder bei niedrigerer Temperatur zu sieden).

Dieser Wasserdampf füllt den Vakuumraum. Die Pumpe kann keinen niedrigeren Druck als den Dampfdruck des verwendeten Wassers erzeugen, da das Wasser selbst diesen Druck immer erzeugt.

Wie die Wassertemperatur die Leistung bestimmt

Der Dampfdruck von Wasser hängt direkt von seiner Temperatur ab. Kälteres Wasser hat einen niedrigeren Dampfdruck, was zu einem tieferen (niedrigeren Druck) Vakuum führt.

Zum Beispiel beträgt der Dampfdruck von Wasser bei 25 °C (77 °F) etwa 31,7 mbar. Bei 15 °C (59 °F) sinkt er auf 17 mbar. Das bedeutet, dass die Verwendung von kälterem Wasser die Leistung Ihrer Pumpe erheblich verbessern kann.

Leistungsbereiche und Verbesserungen

Wenn Sie das zugrunde liegende Prinzip kennen, können Sie die praktischen Spezifikationen, denen Sie begegnen werden, besser verstehen.

Der Standardbetriebsbereich

Die meisten Spezifikationen geben ein Vakuum von 2000 Pa (20 mbar) an. Dies setzt voraus, dass das zirkulierende Wasser etwa Raumtemperatur (ca. 20 °C / 68 °F) hat, bei der der Dampfdruck des Wassers 23,4 mbar beträgt. Dies ist die realistische Leistung, die Sie im Alltag erwarten sollten.

Fördermenge vs. Endvakuum

Es ist wichtig, zwischen der Fördermenge (z. B. 80 L/min) und dem Endvakuum zu unterscheiden. Die Fördermenge misst, wie schnell die Pumpe Luft absaugt, während das Endvakuum misst, wie viel Luft sie letztendlich absaugen kann. Eine hohe Fördermenge garantiert kein tieferes Vakuum.

Erreichen tieferer Vakuums mit Ejektoren

Einige Systeme können mit einem atmosphärischen Ejektor in Serie ausgestattet werden. Dieses Gerät nutzt den Venturi-Effekt, um eine zusätzliche Niederdruckstufe zu erzeugen, wodurch das System ein tieferes Vakuum von 270 bis 670 Pa (2,7 bis 6,7 mbar) erreichen kann und somit die normale Grenze des Wasserdampfdrucks überschreitet.

Die Abwägungen verstehen

Wasserstrahlpumpen sind aus einem bestimmten Grund beliebt, aber es ist entscheidend, ihre Grenzen zu kennen.

Die Dampfdruckgrenze

Dies ist die primäre Abwägung. Diese Pumpen sind physikalisch nicht in der Lage, Hoch- oder Ultrahochvakuumwerte zu erreichen, die für Anwendungen wie Massenspektrometrie oder Oberflächenwissenschaften erforderlich sind.

Potenzial für Kontamination

Das erzeugte Vakuum ist nicht „sauber“. Es ist mit Wasserdampf gesättigt, was empfindliche Proben kontaminieren oder bestimmte chemische Reaktionen stören kann.

Temperaturanstieg des Wassers

In einem geschlossenen Kreislaufsystem ohne Kühleinheit (Chiller) erwärmt die mechanische Arbeit der Pumpe das Wasser mit der Zeit. Wenn das Wasser wärmer wird, steigt sein Dampfdruck und die Vakuumleistung verschlechtert sich stetig.

Ist eine Wasserpumpe das Richtige für Ihr Ziel?

Nutzen Sie diesen Leitfaden, um festzustellen, ob eine Wasserstrahlpumpe Ihren Anforderungen entspricht.

  • Wenn Ihr Hauptaugenmerk auf allgemeiner Laborfiltration, Rotationsverdampfung oder Aspiration liegt: Eine Wasserpumpe ist eine ausgezeichnete, robuste und kostengünstige Wahl, da diese Prozesse gut im Bereich von 20–40 mbar funktionieren.
  • Wenn Ihr Hauptaugenmerk auf Gefriertrocknung (Lyophilisierung) oder Prozessen liegt, die Vakuums unter 1 mbar erfordern: Sie benötigen eine andere Art von Pumpe, z. B. eine zweistufige Drehschieberpumpe oder eine Trocken-Scrollpumpe.
  • Wenn Ihr Hauptaugenmerk darauf liegt, das bestmögliche Vakuum mit Ihrer Wasserpumpe zu erzielen: Verwenden Sie kaltes, frisches Wasser oder schließen Sie die Pumpe an einen Kühlerkreislauf an, um die Wassertemperatur konstant niedrig zu halten.

Indem Sie verstehen, dass die Leistung direkt an die Wassertemperatur gebunden ist, können Sie Ihren Vakuumprozess effektiv steuern und optimieren.

Zusammenfassungstabelle:

Parameter Wert Anmerkungen
Endvakuum-Bereich 2000–4000 Pa (20–40 mbar) Standard für Wasser bei Raumtemperatur (~20°C)
Entscheidender limitierender Faktor Wasserdampfdruck Abhängig von der Wassertemperatur; kälteres Wasser verbessert das Vakuum
Verbessertes Vakuum mit Ejektor 270–670 Pa (2,7–6,7 mbar) Nutzt den Venturi-Effekt für tieferes Vakuum
Häufige Anwendungen Filtration, Aspiration, Rotationsverdampfung Geeignet für Grobvakuumanforderungen
Einschränkungen Nicht für Hoch-/Ultrahochvakuum geeignet, potenzielle Wasserdampf-Kontamination Vermeiden Sie Anwendungen, die <1 mbar erfordern

Benötigen Sie eine zuverlässige Vakuumlösung, die auf die einzigartigen Bedürfnisse Ihres Labors zugeschnitten ist? Bei KINTEK nutzen wir außergewöhnliche F&E und Eigenfertigung, um fortschrittliche Hochtemperatur-Ofenlösungen anzubieten, einschließlich Muffel-, Rohr-, Drehrohrofen, Vakuum- & Atmosphärenöfen sowie CVD/PECVD-Systeme. Unsere starke Fähigkeit zur Tiefenanpassung stellt sicher, dass wir Ihre experimentellen Anforderungen präzise erfüllen können, sei es bei der Optimierung von Vakuumprozessen oder der Handhabung komplexer thermischer Anwendungen. Kontaktieren Sie uns noch heute, um zu besprechen, wie unsere Expertise die Effizienz und die Ergebnisse Ihres Labors verbessern kann!

Ähnliche Produkte

Andere fragen auch

Ähnliche Produkte

Ultra-Vakuum-Elektroden-Durchführungsstecker Flansch-Stromkabel für Hochpräzisionsanwendungen

Ultra-Vakuum-Elektroden-Durchführungsstecker Flansch-Stromkabel für Hochpräzisionsanwendungen

Ultra-Vakuum-Elektrodendurchführungen für zuverlässige UHV-Verbindungen. Hochdichtende, anpassbare Flanschoptionen, ideal für Halbleiter- und Raumfahrtanwendungen.

CF KF Flansch-Vakuum-Elektroden-Durchführungsdichtung für Vakuumsysteme

CF KF Flansch-Vakuum-Elektroden-Durchführungsdichtung für Vakuumsysteme

Zuverlässige CF/KF-Flansch-Vakuumelektrodendurchführung für Hochleistungs-Vakuumsysteme. Gewährleistet hervorragende Abdichtung, Leitfähigkeit und Haltbarkeit. Anpassbare Optionen verfügbar.

1700℃ Gesteuerter Ofen mit inerter Stickstoffatmosphäre

1700℃ Gesteuerter Ofen mit inerter Stickstoffatmosphäre

KT-17A Ofen mit kontrollierter Atmosphäre: Präzises Heizen bei 1700°C mit Vakuum- und Gassteuerung. Ideal für Sinterung, Forschung und Materialverarbeitung. Jetzt erforschen!

Hochdruck-Labor-Vakuum-Rohrofen Quarz-Rohrofen

Hochdruck-Labor-Vakuum-Rohrofen Quarz-Rohrofen

KINTEK Hochdruck-Rohrofen: Präzisionserwärmung auf bis zu 1100°C mit 15Mpa Druckregelung. Ideal für Sinterung, Kristallwachstum und Laborforschung. Anpassbare Lösungen verfügbar.

1400℃ Hochtemperatur-Labor-Rohrofen mit Quarz- und Tonerde-Rohr

1400℃ Hochtemperatur-Labor-Rohrofen mit Quarz- und Tonerde-Rohr

KINTEKs Rohrofen mit Aluminiumoxid-Rohr: Präzise Hochtemperaturverarbeitung bis zu 2000°C für Labore. Ideal für Materialsynthese, CVD und Sinterung. Anpassbare Optionen verfügbar.

Labor-Vakuum-Kipp-Drehrohrofen Drehrohrofen

Labor-Vakuum-Kipp-Drehrohrofen Drehrohrofen

KINTEK Labor-Drehrohrofen: Präzisionserwärmung für Kalzinierung, Trocknung, Sinterung. Anpassbare Lösungen mit Vakuum und kontrollierter Atmosphäre. Verbessern Sie jetzt Ihre Forschung!

304 316 Edelstahl-Hochvakuum-Kugelabsperrventil für Vakuumsysteme

304 316 Edelstahl-Hochvakuum-Kugelabsperrventil für Vakuumsysteme

Die 304/316-Edelstahl-Vakuumkugelhähne und Absperrventile von KINTEK gewährleisten eine leistungsstarke Abdichtung für industrielle und wissenschaftliche Anwendungen. Entdecken Sie langlebige, korrosionsbeständige Lösungen.

Hochleistungs-Vakuumbälge für effiziente Verbindungen und stabiles Vakuum in Systemen

Hochleistungs-Vakuumbälge für effiziente Verbindungen und stabiles Vakuum in Systemen

KF-Ultrahochvakuum-Beobachtungsfenster mit Hochborosilikatglas für klare Sicht in anspruchsvollen 10^-9 Torr-Umgebungen. Langlebiger 304-Edelstahl-Flansch.

Geneigte rotierende plasmaunterstützte chemische Abscheidung PECVD-Rohrofenmaschine

Geneigte rotierende plasmaunterstützte chemische Abscheidung PECVD-Rohrofenmaschine

Fortschrittlicher PECVD-Rohrofen für die präzise Dünnschichtabscheidung. Gleichmäßige Heizung, RF-Plasmaquelle, anpassbare Gassteuerung. Ideal für die Halbleiterforschung.

Molybdän-Vakuum-Wärmebehandlungsofen

Molybdän-Vakuum-Wärmebehandlungsofen

Hochleistungs-Molybdän-Vakuumofen für präzise Wärmebehandlung bei 1400°C. Ideal zum Sintern, Löten und Kristallwachstum. Langlebig, effizient und anpassbar.

Sonderanfertigung Vielseitiger CVD-Rohrofen Chemische Gasphasenabscheidung CVD-Ausrüstung Maschine

Sonderanfertigung Vielseitiger CVD-Rohrofen Chemische Gasphasenabscheidung CVD-Ausrüstung Maschine

Der CVD-Rohrofen von KINTEK bietet eine präzise Temperaturregelung bis zu 1600°C, ideal für die Dünnschichtabscheidung. Anpassbar für Forschung und industrielle Anforderungen.

CVD-Rohrofenmaschine mit mehreren Heizzonen für die chemische Gasphasenabscheidung

CVD-Rohrofenmaschine mit mehreren Heizzonen für die chemische Gasphasenabscheidung

Die Multi-Zone-CVD-Röhrenöfen von KINTEK bieten eine präzise Temperatursteuerung für die fortschrittliche Dünnschichtabscheidung. Ideal für Forschung und Produktion, anpassbar an Ihre Laboranforderungen.

Vertikaler Labor-Quarz-Rohrofen Rohrofen

Vertikaler Labor-Quarz-Rohrofen Rohrofen

Vertikaler Präzisions-Rohrofen von KINTEK: 1800℃ Heizung, PID-Regelung, anpassbar für Labore. Ideal für CVD, Kristallwachstum und Materialprüfung.

Labor-Muffelofen mit Bodenanhebung

Labor-Muffelofen mit Bodenanhebung

Steigern Sie die Laboreffizienz mit dem KT-BL-Bodenhebeofen: präzise 1600℃-Steuerung, überragende Gleichmäßigkeit und gesteigerte Produktivität für Materialwissenschaft und F&E.

1400℃ Gesteuerter Ofen mit inerter Stickstoffatmosphäre

1400℃ Gesteuerter Ofen mit inerter Stickstoffatmosphäre

KT-14A-Ofen mit kontrollierter Atmosphäre für Labor und Industrie. 1400°C Maximaltemperatur, Vakuumversiegelung, Inertgassteuerung. Anpassbare Lösungen verfügbar.

Vakuumversiegelter, kontinuierlich arbeitender Drehrohrofen Drehrohrofen

Vakuumversiegelter, kontinuierlich arbeitender Drehrohrofen Drehrohrofen

Präzisions-Drehrohrofen für die kontinuierliche Vakuumverarbeitung. Ideal zum Kalzinieren, Sintern und für die Wärmebehandlung. Anpassbar bis zu 1600℃.

600T Vakuum-Induktions-Heißpresse Vakuum-Wärmebehandlung und Sinterofen

600T Vakuum-Induktions-Heißpresse Vakuum-Wärmebehandlung und Sinterofen

600T Vakuum-Induktions-Heißpressofen für präzises Sintern. Fortschrittlicher 600T Druck, 2200°C Erwärmung, Vakuum/Atmosphärensteuerung. Ideal für Forschung und Produktion.

Vakuum-Wärmebehandlungs-Sinterofen mit Druck zum Vakuumsintern

Vakuum-Wärmebehandlungs-Sinterofen mit Druck zum Vakuumsintern

Der Vakuum-Drucksinterofen von KINTEK bietet 2100℃ Präzision für Keramiken, Metalle und Verbundwerkstoffe. Anpassbar, leistungsstark und kontaminationsfrei. Jetzt Angebot einholen!

Kleiner Vakuum-Wärmebehandlungs- und Sinterofen für Wolframdraht

Kleiner Vakuum-Wärmebehandlungs- und Sinterofen für Wolframdraht

Kompakter Vakuum-Wolframdraht-Sinterofen für Labore. Präzises, mobiles Design mit hervorragender Vakuumintegrität. Ideal für die moderne Materialforschung. Kontaktieren Sie uns!

Edelstahl-Schnellverschluss-Vakuumkette Dreiteilige Klemme

Edelstahl-Schnellverschluss-Vakuumkette Dreiteilige Klemme

Schnellverschluss-Vakuumklemmen aus Edelstahl gewährleisten leckagefreie Verbindungen für Hochvakuumsysteme. Langlebig, korrosionsbeständig und einfach zu installieren.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht