Der 3-Zonen-Rohrofen ist ein vielseitiges Gerät, das für präzise thermische Verarbeitungsanwendungen wie Glühen und chemische Gasphasenabscheidung (CVD) entwickelt wurde.Er verfügt über drei unabhängig voneinander gesteuerte Heizzonen, die eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit und Gradientensteuerung ermöglichen.Der Ofen kann Proben bis zu einer Größe von 60 mm aufnehmen und unterstützt die Gaszufuhr bei verschiedenen Drücken, einschließlich atmosphärischer und subatmosphärischer Bedingungen.Zu den wichtigsten Merkmalen gehören die flexible Handhabung von Gasen, die minimale Partikelbildung und die Kompatibilität mit Prozessgasen wie Ar, 4% H2 in Ar und N2.Diese Eigenschaften machen ihn ideal für Forschungs- und Industrieanwendungen, die kontrollierte thermische Umgebungen erfordern.
Die wichtigsten Punkte werden erklärt:
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Flexible Möglichkeiten der thermischen Verarbeitung
- Der 3-Zonen-Rohrofen ist für das Glühen und die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) bei Temperaturen unter 1000°C ausgelegt.
- Drei unabhängig voneinander gesteuerte Heizzonen ermöglichen präzise Temperaturgradienten, die für eine gleichmäßige Materialbehandlung entscheidend sind.
- Zu den Anwendungen gehören das Vakuumsintern (Verbesserung der Materialdichte) und das Vakuumglühen (Spannungsabbau und Gleichmäßigkeit des Gefüges).
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Probenhandhabung und Größenkompatibilität
- Geeignet für Proben mit einer Größe von bis zu 60 mm (2 Zoll), geeignet für kleine bis mittelgroße Experimente.
- Vertikale Konstruktionen minimieren die Partikelbildung, während automatische Wafer/Boot-Transfersysteme die Produktivität erhöhen.
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Fortschrittliches Gaszufuhrsystem
- Ausgestattet mit einem Verteiler zum Einleiten von Prozess-/Spülgasen (z.B. Ar, 4%H2 in Ar, N2) bei atmosphärischem oder subatmosphärischem Druck.
- Die Kompatibilität der Quarzröhren gewährleistet chemische Inertheit und Hochtemperaturstabilität.
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Temperatur- und Atmosphärenkontrolle
- Hervorragende Temperaturverteilung über die Zonen, entscheidend für gleichbleibende Ergebnisse bei der Materialsynthese.
- Unterstützt die Verarbeitung unter Vakuum oder kontrollierter Atmosphäre und ermöglicht oxidationsempfindliche Behandlungen.
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Hauptkomponenten und Sicherheitsmerkmale
- Heizsystem:Elektrische Widerstandselemente (z. B. SiC, MoSi2) für effiziente Energienutzung.
- Kühlung:Exsikkatoren für den sicheren Probentransfer nach dem Erhitzen zur Vermeidung von Kontaminationen.
- Steuerung:PID/PLC-Systeme automatisieren Temperaturprofile und Prozessabläufe.
Diese Fähigkeiten machen den 3-Zonen-Rohrofen unentbehrlich für Labore und Industriezweige, die sich auf fortschrittliche Materialentwicklung, Halbleiterverarbeitung und Präzisionswärmebehandlungen konzentrieren.Das modulare Design und die Gasflexibilität tragen den sich entwickelnden Forschungsanforderungen Rechnung und gewährleisten gleichzeitig die Reproduzierbarkeit.
Zusammenfassende Tabelle:
Merkmal | Beschreibung |
---|---|
Heizzonen | Drei unabhängig voneinander gesteuerte Zonen für präzise Temperaturgradienten. |
Größe der Probe | Geeignet für Proben bis zu 60 mm (2 Zoll). |
Gaszufuhr | Unterstützt Ar, 4%H2 in Ar, N2 bei atmosphärischem/unteratmosphärischem Druck. |
Temperaturkontrolle | Ausgezeichnete Gleichmäßigkeit für eine konsistente Materialsynthese. |
Anwendungen | Glühen, CVD, Vakuumsintern und oxidationsempfindliche Behandlungen. |
Sicherheit und Automatisierung | PID/PLC-Systeme, Exsikkatoren und inerte Quarzröhren für zuverlässigen Betrieb. |
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Der 3-Zonen-Rohrofen von KINTEK bietet eine unübertroffene Temperaturregelung, Gasflexibilität und gleichmäßige Erwärmung - perfekt für die moderne Materialforschung und Halbleiteranwendungen.Unsere firmeneigene Forschung und Entwicklung sowie die umfassende Anpassung an Kundenwünsche stellen sicher, dass Ihre individuellen experimentellen Anforderungen erfüllt werden.
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