MPCVD
HFCVD-Maschinensystem Ausrüstung für Ziehstein Nano-Diamant-Beschichtung
Artikelnummer : HFCVD-100
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Endvakuumgrad
- 2.0×10-1Pa
- Dicke der Diamantbeschichtung
- 10 ~ 15mm
- Lebensdauer
- 6-10 mal länger
Versand:
Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.
Visuelle Übersicht: HFCVD-System für Diamantbeschichtungen
Entdecken Sie das fortschrittliche HFCVD-System (Hot Filament Chemical Vapor Deposition) von KINTEK, das speziell für die Herstellung hochwertiger Nano-Diamant-Verbundbeschichtungen entwickelt wurde. Dieses System ist ideal für Anwendungen, die eine hohe Härte, Verschleißfestigkeit und geringe Reibung erfordern, wie z. B. die Verbesserung der Leistung und Lebensdauer von Drahtziehwerkzeugen.
Technische Spezifikationen
| HFCVD technische Zusammensetzung | ||
| Technische Parameter | Zusammensetzung der Anlage | System-Konfiguration |
| Glasglocke: Dia. 500mm, Höhe 550mm, Kammer aus rostfreiem Stahl SUS304; innere Isolierung aus rostfreiem Stahl, Hubhöhe 350mm; | Eine Reihe von Vakuumkammer (Glocke) Hauptkörper (ummantelte Wasser-Kühlung Struktur) | Vakuumkammer (Glocke) Hauptkörper;Der Hohlraum ist aus hochwertigem Edelstahl 304 gemacht; Vertikale Glocke: die ummantelte Wasserkühlung Mantel ist auf dem gesamten Umfang der Glocke installiert. Die Innenwand der Glocke ist mit einer Haut aus rostfreiem Stahl isoliert, und die Glocke ist an der Seite befestigt. Genaue und stabile Positionierung ; Beobachtungsfenster: horizontal in der Mitte der Vakuumkammer 200mm angeordnet Beobachtungsfenster, Wasserkühlung, Schallwand, Seite und obere Konfiguration 45 Grad Schräglage, 50° Beobachtungsfenster (beobachten Sie den gleichen Punkt wie die horizontale Beobachtungsfenster, und die Probe unterstützende Plattform); die beiden Beobachtungsfenster halten die bestehende Position und Größe.Bell jar Boden ist 20mm höher als die Ebene der Bank, setzen Kühlung; die Löcher auf der Ebene, wie große Ventile, Luftablassventile, Luftdruckmessung, Bypass-Ventile, etc, sind mit Metallgitter abgedichtet und für die Installation von Elektroden reserviert Schnittstelle; |
| Gerätetisch: L1550* B900*H1100mm | Ein Satz von Schlepp-Probentisch-Gerät (Annahme der Doppel-Achsen-Antrieb) | Probenhalter Vorrichtung: Edelstahl-Probenhalter (Schweißen Wasserkühlung) 6-Position Gerät; es kann separat eingestellt werden, nur nach oben und unten Anpassung, die nach oben und unten Einstellbereich ist 25mm, und die linke und rechte Schütteln ist erforderlich, um weniger als 3% beim Gehen nach oben und unten (das heißt, die linke und rechte Schütteln von steigenden oder fallenden um 1mm ist weniger als 0,03mm), und die Probe Bühne nicht drehen, wenn steigende oder fallende. |
| Endvakuumgrad: 2.0×10-1Pa ; | Ein Satz von Vakuum-System | Vakuum-System: Konfiguration des Vakuumsystems: mechanische Pumpe + Vakuumventil + physikalisches Ablassventil + Hauptablassleitung + Bypass; (vom Lieferanten der Vakuumpumpe bereitgestellt), das Vakuumventil verwendet ein pneumatisches Ventil; Messung des Vakuumsystems: Membrandruck. |
| Druckanstiegsrate: ≤5Pa/h; | Zweikanal-Massendurchflussmesser-Gasversorgungssystem | Gasversorgungssystem: Der Massendurchflussmesser wird von Partei B, Zwei-Wege-Lufteinlass konfiguriert, die Durchflussmenge wird durch den Massendurchflussmesser gesteuert, nach der Zwei-Wege-Sitzung, es tritt in die Vakuumkammer von oben, und die Innenseite des Luftansaugrohrs ist 50mm |
| Probentischbewegung: Auf- und Abwärtsbereich ist ± 25m; es ist erforderlich, um links und rechts Verhältnis schütteln, wenn nach oben und unten um ± 3%; | Ein Satz von Elektrodengeräten (2 Kanäle) | Elektrode Gerät: Die Längsrichtung der vier Elektrodenlöcher ist parallel zur Längsrichtung der Trägerplattform, und die Längsrichtung ist gegenüber dem Hauptbeobachtungsfenster mit einem Durchmesser von 200mm . |
| Arbeitsdruck: Verwendung von Membranmanometer, Messbereich: 0 ~ 10kPa; Arbeit konstant bei 1kPa ~5kPa, die konstante Druckwertänderungen plus oder minus 0,1kPa; | Eine Reihe von Kühlwasser-System | Kühlwassersystem: Die Glocke, Elektroden und Bodenplatte sind alle mit zirkulierenden Wasser-Kühlleitungen ausgestattet, und sind mit unzureichenden Wasserfluss Alarmgerät 3.7: Steuersystem ausgestattet. Die Schalter, Instrumente und die Stromversorgung für das Anheben der Glocke, die Entleerung, die Vakuumpumpe, die Hauptstraße, den Bypass, den Alarm, den Durchfluss, den Luftdruck usw. sind an der Seite des Ständers angebracht und werden über einen 14-Zoll-Touchscreen gesteuert; das Gerät verfügt über ein vollautomatisches Steuerprogramm ohne manuelle Eingriffe und kann Daten speichern und abrufen |
| Position des Lufteinlasses: der Lufteinlass befindet sich an der Oberseite der Glocke, und die Position der Abluftöffnung befindet sich direkt unter dem Probenhalter; | Steuerungssystem | |
| Steuerungssystem: PLC-Steuerung + 10-Zoll-Touchscreen | Eine Reihe von automatischen Druckregelsystem (original Druckregelventil aus Deutschland importiert) | |
| Inflationssystem: 2 Kanäle Massendurchflussmesser, Durchflussbereich: 0-2000sccm und 0-200sccm; Pneumatisches Ventil | Widerstands-Vakuum-Messgerät | |
| 3.1.10 Vakuumpumpe: D16C Vakuumpumpe | ||
Verständnis der HFCVD-Diamantabscheidung
Das Hot Filament Chemical Vapor Deposition (HFCVD)-Verfahren zur Herstellung von Diamantschichten basiert auf folgendem Funktionsprinzip: Eine kohlenstoffhaltige Atmosphäre wird mit übersättigtem Wasserstoff gemischt, aktiviert (in der Regel durch heiße Fäden) und dann über ein Substrat geleitet. Unter genau kontrollierten Bedingungen - dazu gehören die Zusammensetzung der Atmosphäre, die Aktivierungsenergie, die Temperatur des Substrats und der Abstand zwischen dem Substrat und der Aktivierungsquelle - wird ein Diamantfilm abgeschieden. Die Keimbildung und das Wachstum von Diamantschichten erfolgt nach allgemeiner Auffassung in drei Stufen:
- Aktivierung und Bildung von Übergangsschichten: Kohlenstoffhaltiges Gas und Wasserstoffgas zerfallen bei einer bestimmten Temperatur in Kohlenstoff, Wasserstoffatome und andere aktive freie Radikale. Diese verbinden sich mit dem Substrat und bilden zunächst eine sehr dünne Karbidübergangsschicht.
- Diamant-Kernbildung: Die Kohlenstoffatome lagern Diamantkerne auf der auf dem Substrat gebildeten Übergangsschicht ab.
- Filmwachstum: Die gebildeten Diamantkristallkerne wachsen in einer geeigneten Umgebung zu Diamantmikrokörnern heran und wachsen dann weiter zu einem kohäsiven Diamantfilm.
Hauptvorteile unseres HFCVD-Systems und der Nano-Diamantbeschichtungen
Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung, bei dem Hartmetall (WC-Co) als Substrat verwendet wird, setzt die chemische Gasphasenmethode (CVD) ein, um eine herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf der inneren Lochoberfläche der Form abzuscheiden. Nach dem Schleifen und Polieren der Beschichtung ergibt sich ein völlig neues Produkt. Die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung weist nicht nur die für herkömmliche Diamantbeschichtungen charakteristische starke Haftung und Verschleißfestigkeit auf, sondern bietet auch die Vorteile einer flachen, glatten Oberfläche, eines geringen Reibungskoeffizienten und einer einfachen Schleif- und Polierbarkeit, die für Nano-Diamantbeschichtungen typisch sind. Diese Technologie löst die technischen Herausforderungen im Zusammenhang mit der Haftung der Beschichtung und überwindet den Engpass der schwer zu polierenden Diamantbeschichtungsoberflächen, wodurch die Hindernisse für die industrielle Nutzung von CVD-Diamantschichten beseitigt werden.
|
Technische Indikatoren |
Herkömmliches Ziehwerkzeug |
Nanodiamantbeschichtetes Ziehwerkzeug |
|
Beschichtung Oberfläche Korngröße |
keine |
20~80nm |
|
Diamantgehalt der Beschichtung |
keine |
≥99% |
|
Diamant-Beschichtungsdicke |
keine |
10 ~ 15mm |
|
Oberflächenrauhigkeit |
Ra≤0.1mm |
Klasse A: Ra≤0,1mm Klasse B: Ra≤0,05mm |
|
Bereich des inneren Lochdurchmessers der Ziehsteinbeschichtung |
Ф3 ~ Ф70mm |
Ф3 ~ Ф70mm |
|
Lebensdauer |
Die Lebensdauer hängt von den Arbeitsbedingungen ab |
6-10 mal länger |
|
Oberflächenreibungskoeffizient |
0.8 |
0.1 |
Spezifische Konstruktionsvorteile des HFCVD-Systems von KINTEK:
- Präzisionsformhebeplattform: Für die Parallelität und Geradheit der Formhebeplattform hat unser Unternehmen spezielle Werkzeuge hergestellt. Durch die biaxiale Hebemethode können die beiden Enden um ca. ±0,02 mm (2 Drähte) angehoben und abgesenkt werden, was die Herstellung kleinerer, hochpräziser Formen ermöglicht.
- Optimierte Integration von Werkzeugen: Unser Unternehmen integriert die Position jeder Komponente auf dem Werkzeug und konzentriert sich dabei auf die Werkzeugausstattung und den Prozess der Form. Dies gewährleistet eine gute Werkzeugbestückung und -aufspannung, einen stabilen und zuverlässigen Betrieb, hohe Präzision und Benutzerfreundlichkeit.
- Fortschrittliche Druckregelung: Während andere Hersteller Ablenkventile verwenden, die nicht linear eingestellt werden können (der Spalt vergrößert sich schnell beim Öffnen), konstruiert unser Unternehmen das System mit einem Absperrventil, das auf den Prinzipien der stabilen Druckregelung basiert. Dies ermöglicht eine lineare Einstellung des Absperrspalts und damit eine stabile Druckregelung.
- Vollautomatisches Kontrollsystem: Das System regelt den Druck automatisch nach Computeralgorithmen, wodurch die Zufälligkeit des Bedieners reduziert und die Prozesssicherheit erhöht wird. Dies spart Arbeit und gewährleistet eine gleichbleibende Formqualität bei gleichen Spezifikationen.
- Stabiler Glockentopf-Betrieb: Um die Stabilität der Hebeglocke zu gewährleisten, verwendet unser Unternehmen selbstschmierende Lager, die die Rotation flexibler und klemmfrei machen. Das System ist so konzipiert, dass es den spezifischen Anforderungen jedes Kunden an den Diamantbeschichtungsprozess gerecht wird.
Ihr Partner für fortschrittliche Materiallösungen
KINTEK verfügt über eine herausragende Forschung und Entwicklung sowie eine eigene Fertigung und versorgt verschiedene Labore mit fortschrittlichen Hochtemperatur-Ofenlösungen. Unsere Produktpalette, die Muffel-, Rohr- und Drehrohröfen, Vakuum- und Atmosphärenöfen sowie CVD-/PECVD-/MPCVD-Anlagen wie diese HFCVD-Anlage umfasst, wird durch unsere umfangreichen Möglichkeiten zur kundenspezifischen Anpassung ergänzt, damit wir auch einzigartige experimentelle Anforderungen präzise erfüllen können.
Sind Sie bereit, Ihren Diamantbeschichtungsprozess zu verbessern?
Erfahren Sie mehr darüber, wie unser HFCVD-System auf Ihre spezifischen Forschungs- oder Produktionsanforderungen zugeschnitten werden kann. Unsere Experten sind bereit, Ihre Anforderungen zu besprechen und Ihnen zu helfen, die optimale Lösung zu finden.
Kontaktieren Sie uns für ein Beratungsgespräch oder ein Angebot
4.9
out of
5
This machine is a game-changer! The nano diamond coating is flawless and super durable. Worth every penny!
4.8
out of
5
Incredible technology! The HFCVD system delivers precision and efficiency like no other. Highly recommend!
4.7
out of
5
Fast delivery and top-notch quality. The coating is ultra-smooth and long-lasting. Impressed!
4.9
out of
5
The HFCVD machine exceeded expectations. The nano diamond coating is perfect for high-performance applications.
4.8
out of
5
Outstanding value for money. The machine is robust and the coating is incredibly wear-resistant.
4.7
out of
5
A technological marvel! The nano diamond coating process is seamless and highly efficient.
4.9
out of
5
The HFCVD system is a must-have for precision coating. The results are consistently outstanding.
4.8
out of
5
Superior quality and durability. The nano diamond coating is perfect for industrial use.
4.7
out of
5
Fast, efficient, and reliable. The HFCVD machine delivers exceptional coating every time.
4.9
out of
5
The best investment for high-quality nano diamond coating. Performance is unmatched!
4.8
out of
5
Exceptional machine with cutting-edge technology. The coating is ultra-durable and precise.
4.7
out of
5
The HFCVD system is a powerhouse. Delivers consistent, high-quality results effortlessly.
4.9
out of
5
Perfect for industrial applications. The nano diamond coating is tough and long-lasting.
4.8
out of
5
Highly advanced and efficient. The HFCVD machine is a top performer in its class.
4.7
out of
5
Reliable and high-performing. The nano diamond coating is flawless and durable.
4.9
out of
5
The HFCVD system is a masterpiece. Delivers superior coating with unmatched precision.
Produkte
HFCVD-Maschinensystem Ausrüstung für Ziehstein Nano-Diamant-Beschichtung
Fordern Sie ein Angebot an
Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!
Ähnliche Produkte
Sonderanfertigung Vielseitiger CVD-Rohrofen Chemische Gasphasenabscheidung CVD-Ausrüstung Maschine
Der CVD-Rohrofen von KINTEK bietet eine präzise Temperaturregelung bis zu 1600°C, ideal für die Dünnschichtabscheidung. Anpassbar für Forschung und industrielle Anforderungen.
RF-PECVD-System Hochfrequenzplasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung
KINTEK RF PECVD-System: Präzisions-Dünnschichtabscheidung für Halbleiter, Optik und MEMS. Automatisiertes Niedertemperaturverfahren mit hervorragender Schichtqualität. Kundenspezifische Lösungen verfügbar.
915MHz MPCVD Diamant Maschine Mikrowellen Plasma Chemische Gasphasenabscheidung System Reaktor
KINTEK MPCVD-Diamantmaschine: Hochwertige Diamantsynthese mit fortschrittlicher MPCVD-Technologie. Schnelleres Wachstum, höhere Reinheit, anpassbare Optionen. Steigern Sie jetzt Ihre Produktion!
Zylindrisches Resonator-MPCVD-Maschinensystem für die Diamantzüchtung im Labor
KINTEK MPCVD-Anlagen: Wachsen Sie hochwertige Diamantschichten mit Präzision. Zuverlässig, energieeffizient und einsteigerfreundlich. Expertenunterstützung verfügbar.
CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation CVD-Maschine
CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation - Hochpräziser 1200°C-Laborofen für die Forschung an modernen Materialien. Anpassbare Lösungen verfügbar.
Ultra-Vakuum-Elektroden-Durchführungsstecker Flansch-Stromkabel für Hochpräzisionsanwendungen
Ultra-Vakuum-Elektrodendurchführungen für zuverlässige UHV-Verbindungen. Hochdichtende, anpassbare Flanschoptionen, ideal für Halbleiter- und Raumfahrtanwendungen.
MPCVD-Maschinensystem Reaktor Glockentopf-Resonator für Labor und Diamant-Züchtung
KINTEK MPCVD-Anlagen: Präzisions-Diamantenzüchtungsmaschinen für hochreine, im Labor gezüchtete Diamanten. Zuverlässig, effizient und anpassbar für Forschung und Industrie.
Dia-PECVD-Rohrofen mit Flüssigvergaser PECVD-Maschine
KINTEK Slide PECVD-Rohrofen: Präzisions-Dünnschichtabscheidung mit RF-Plasma, schnellen Temperaturzyklen und anpassbarer Gassteuerung. Ideal für Halbleiter und Solarzellen.
Entdecken Sie die fortschrittlichen Spark Plasma Sintering (SPS) Öfen von KINTEK für eine schnelle und präzise Materialverarbeitung. Anpassbare Lösungen für Forschung und Produktion.
Labor-Quarz-Rohrofen RTP Heiz-Rohrofen
Der RTP-Schnellheiz-Rohrofen von KINTEK bietet eine präzise Temperaturregelung, schnelles Aufheizen mit bis zu 100 °C/s und vielseitige Atmosphärenoptionen für fortschrittliche Laboranwendungen.
Ultrahochvakuum CF-Flansch Edelstahl Saphirglas Beobachtungsfenster
CF-Saphir-Sichtfenster für Ultra-Hochvakuum-Systeme. Langlebig, klar und präzise für Halbleiter- und Raumfahrtanwendungen. Jetzt Spezifikationen erforschen!
Hochleistungs-Vakuumbälge für effiziente Verbindungen und stabiles Vakuum in Systemen
KF-Ultrahochvakuum-Beobachtungsfenster mit Hochborosilikatglas für klare Sicht in anspruchsvollen 10^-9 Torr-Umgebungen. Langlebiger 304-Edelstahl-Flansch.
CF KF Flansch-Vakuum-Elektroden-Durchführungsdichtung für Vakuumsysteme
Zuverlässige CF/KF-Flansch-Vakuumelektrodendurchführung für Hochleistungs-Vakuumsysteme. Gewährleistet hervorragende Abdichtung, Leitfähigkeit und Haltbarkeit. Anpassbare Optionen verfügbar.
CVD-Rohrofenmaschine mit mehreren Heizzonen für die chemische Gasphasenabscheidung
Die Multi-Zone-CVD-Röhrenöfen von KINTEK bieten eine präzise Temperatursteuerung für die fortschrittliche Dünnschichtabscheidung. Ideal für Forschung und Produktion, anpassbar an Ihre Laboranforderungen.
Geneigte rotierende plasmaunterstützte chemische Abscheidung PECVD-Rohrofenmaschine
Die PECVD-Beschichtungsanlage von KINTEK liefert präzise Dünnschichten bei niedrigen Temperaturen für LEDs, Solarzellen und MEMS. Anpassbare, leistungsstarke Lösungen.
Geneigte rotierende plasmaunterstützte chemische Abscheidung PECVD-Rohrofenmaschine
Fortschrittlicher PECVD-Rohrofen für die präzise Dünnschichtabscheidung. Gleichmäßige Heizung, RF-Plasmaquelle, anpassbare Gassteuerung. Ideal für die Halbleiterforschung.
Ultra-Hochvakuum-Flansch Luftfahrt Stecker Glas gesintert luftdicht Rundsteckverbinder für KF ISO CF
Ultra-Hochvakuum-Flansch-Luftfahrt-Steckverbinder für Luft- und Raumfahrt und Labore. KF/ISO/CF kompatibel, 10-⁹ mbar luftdicht, MIL-STD zertifiziert. Langlebig & anpassbar.
304 316 Edelstahl-Hochvakuum-Kugelabsperrventil für Vakuumsysteme
Die 304/316-Edelstahl-Vakuumkugelhähne und Absperrventile von KINTEK gewährleisten eine leistungsstarke Abdichtung für industrielle und wissenschaftliche Anwendungen. Entdecken Sie langlebige, korrosionsbeständige Lösungen.